FCSEM場源附近三維不均勻體的畸變特征及校正方法.pdf

1、眾所周知，隨著人工源頻率域電磁法的發(fā)展，場源效應(yīng)包括近場效應(yīng)、場源復(fù)印效應(yīng)以及陰影效應(yīng)的影響變得越來越復(fù)雜而備受關(guān)注，尤其是在三維復(fù)雜條件下。羅延鐘、何繼善等在針對這一問題發(fā)表了多篇論文，并在近場校正等方面形成了自己的理論，在加拿大鳳凰公司提出的近場校正方法----過渡三角形法的基礎(chǔ)上，利用迭代法和數(shù)值逼近法建立了新的近場校正方法，校正效果較好。但是在高維情況下的場源附加效應(yīng)以及陰影效應(yīng)的研究仍存在挑戰(zhàn)，目前僅僅知道它們的存在，其影響規(guī)

2、律還不完全清楚以及校正方法尚待進一步研究。
　　 本文基于猶他大學(xué)CEMI推出的三維積分方程正演軟件對場源附近存在三維不均勻體時所產(chǎn)生影響進行模擬研究。以期了解其規(guī)律特征，進而提出初步的校正方法。首先，對場源復(fù)印效應(yīng)進行了研究，根據(jù)地電異常不均勻體所處的位置、其大小，埋深以及其電阻率與背景場的差異，通過正演計算水平電場分量的全區(qū)視電阻率，分析異常特征，總結(jié)出了場源附近的三維不均勻體所產(chǎn)生的畸變效應(yīng)規(guī)律，總體來說，隨著不均勻體的位

3、置、大小、埋深及電阻率變化，場源復(fù)印效應(yīng)也隨之變化。綜合分析可以看出該畸變效應(yīng)的特征與我們傳統(tǒng)中所說的靜態(tài)位移有著相似的特征，但兩者之間又有一定的差別。只有當(dāng)場源AB與不均勻體相當(dāng)時產(chǎn)生的效應(yīng)和測點處的靜態(tài)位移才基本一致；當(dāng)場源AB遠大于不均勻體時，這時的場源復(fù)印效應(yīng)是局部不均勻體和靜態(tài)位移的綜合反映。由于有了這種似靜態(tài)位移的特征，因此將以上這種場源效應(yīng)稱之為場源靜態(tài)位移，以便我們能夠采用常規(guī)靜態(tài)位移校正的方法來壓制這種場源靜態(tài)位移的影

4、響。在本文中還分析了移動場源下產(chǎn)生的異常特征，并采用中值濾波方法對移動場源下的靜態(tài)位移進行了濾波處理。接著對陰影效應(yīng)進行了模擬研究，通過設(shè)計不同模型，從不均勻體的大小、埋深、離場源的距離以及不均勻體與背景圍巖的電阻率比，總結(jié)出了該畸變效應(yīng)的產(chǎn)生規(guī)律以及影響因素。陰影效應(yīng)的產(chǎn)生原理是由于在近區(qū)或過渡區(qū)的非平面波區(qū)測量時，地層波的成分占主導(dǎo)而引起的。從而根據(jù)地層波與地面波之比來判斷產(chǎn)生陰影效應(yīng)的這一條件，提出了壓制地層波的方法達到濾除陰影效