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文檔簡介
1、高壓功率器件工作在高電壓、大電流條件下,因此高壓功率器件存在較嚴重的散熱問題。對于SOI-LDMOS器件,其低熱導率埋氧層(比硅小兩個數(shù)量級)直接阻擋了熱量向襯底的傳導,頂層硅膜有源區(qū)內產(chǎn)生的熱量不能及時有效地傳遞出去,導致SOI-LDMOS器件比體硅表現(xiàn)出更加嚴重的自熱效應,給器件和電路的可靠性帶來嚴重影響,因此自熱效應已成為影響SOI-LDMOS器件可靠性的一個重要因素,迫切需要對其展開深入研究。
本文首先簡述了功率S
2、OI-LDMOS器件的發(fā)展及存在的自熱問題,然后對SOI-LDMOS器件的閾值電壓、泄漏電流、導通電阻、擊穿電壓及飽和電流等電學特性的溫度效應進行了深入分析,在此基礎上,對SOI-LDMOS器件工作在飽和區(qū)時的熱分布進行建模,建立了SOI-LDMOS器件二維溫度分布解析模型,基于該模型可以分析器件漂移區(qū)的非均勻熱產(chǎn)生對溫度分布的影響。最后本文詳細研究了SOI-LDMOS器件的柵電壓、漏電壓、SOI層厚度、埋氧層厚度、溝道及漂移區(qū)等結構參
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