已閱讀1頁,還剩55頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀
版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、有機玻璃(PMMA)高分子聚合物是MEMS和MOEMS制備工藝中的重要材料,它的刻蝕效果直接影響到元器件的質量.研究PMMA刻蝕有著實際的應用意義.該論文的目的是通過對PMMA進行深度反應離子刻蝕及其側壁鈍化效果的研究,獲得高深寬比,側壁光滑陡直,底面平整光滑刻蝕效果的最佳工藝條件.在實驗的基礎上,該文分析了PMMA氧化分解的機理,研究了不同的反應離子刻蝕條件(包括刻蝕氣體成分及其成分比、刻蝕功率、刻蝕氣壓、氣體流量、刻蝕溫度)下所獲得
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- ⅰ.pmma反應離子深刻蝕及其側壁鈍化技術研究;ⅱ.tinipd形狀記憶合金薄膜制備及其性能研究
- 計算機控制的反應離子刻蝕系統(tǒng)及刻蝕研究.pdf
- 4H-SiC的反應離子刻蝕和電化學刻蝕研究.pdf
- 全息光柵反應離子束刻蝕特性研究.pdf
- 反應離子刻蝕的計算機仿真.pdf
- PLC控制的電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)及刻蝕研究.pdf
- 反應離子刻蝕碲化鋅晶體光學性質與應用研究.pdf
- 刻蝕反應腔的精確匹配.pdf
- 軟刻蝕用母模板的聚焦離子束刻蝕技術制備研究.pdf
- 基于擴散限制刻蝕模型的等離子體刻蝕模擬研究.pdf
- 0.18微米側壁(spacer)干法刻蝕工藝的開發(fā)與優(yōu)化
- 反應離子刻蝕在穿透硅通孔封裝技術中的應用研究.pdf
- 基于.net的反應離子刻蝕設備控制系統(tǒng)的設計與實現(xiàn)
- 反應離子刻蝕輔助的單納米粒子水平的表面增強拉曼光譜研究.pdf
- 約束刻蝕體系和光腐蝕體系中刻蝕反應動力學的研究.pdf
- 基于深刻蝕槽的InP多段耦合腔激光器的研究.pdf
- 等離子體刻蝕輪廓的數(shù)值研究.pdf
- 離子束刻蝕制作中階梯光柵研究.pdf
- 等離子刻蝕操作規(guī)程
- 感應耦合等離子體刻蝕及應用研究.pdf
評論
0/150
提交評論