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1、納米薄膜獨(dú)特的力學(xué)、光學(xué)、電磁學(xué)特性,使其在工程領(lǐng)域內(nèi)被廣泛應(yīng)用。常用的納米薄膜制備方法,無(wú)論是物理或化學(xué)氣相沉積法還是電沉積法,都需要以原子級(jí)超光滑表面為襯底,且襯底表面特性對(duì)薄膜質(zhì)量有重要影響。因此,提高襯底表面質(zhì)量對(duì)納米薄膜制備的研究具有重要意義。
面向薄膜生長(zhǎng)的襯底表面要求,本文提出了一種液動(dòng)壓懸浮拋光新方法,并在此基礎(chǔ)上搭建了完善的液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái),進(jìn)行了相應(yīng)研究。主要研究工作如下:
?。?)設(shè)計(jì)并搭建了液
2、動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái),主要包括驅(qū)動(dòng)、升降、檢測(cè)和主軸四大系統(tǒng)的主要零部件選型和設(shè)計(jì)校核。利用Ansys Workbench對(duì)平臺(tái)進(jìn)行計(jì)算模態(tài)分析,得到各階固有頻率;對(duì)拋光盤(pán)進(jìn)行諧響應(yīng)分析,得到軸向位移、速度、加速度響應(yīng)。結(jié)果顯示一階固有頻率對(duì)軸向響應(yīng)影響最大,但它避開(kāi)了激振頻率,故拋光平臺(tái)工作可靠;
(2)利用錘擊法對(duì)平臺(tái)進(jìn)行試驗(yàn)?zāi)B(tài)分析,通過(guò)PolyMAX模態(tài)參數(shù)識(shí)別法獲得平臺(tái)的固有頻率,其結(jié)果與仿真所得相接近,進(jìn)一步驗(yàn)證了仿真
3、模型的準(zhǔn)確性和拋光平臺(tái)的可靠性;
?。?)設(shè)計(jì)三因素三水平正交實(shí)驗(yàn),利用Kistler六維傳感器研究拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速、加工間隙、拋光液濃度對(duì)上浮力的影響,對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行極差分析和方差分析,得出對(duì)上浮力影響顯著性大小依次為拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速,加工間隙,拋光液濃度;
(4)以電解銅為加工對(duì)象,使用Nano-MAX研拋機(jī)制備前期試樣,利用搭建的液動(dòng)壓懸浮拋光平臺(tái)制備超光滑表面試樣,并通過(guò)Wyko、SEM、TEM等表征銅試樣,結(jié)果表明液動(dòng)壓
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