電阻層析成像有限元模型優(yōu)化與圖像重建算法研究.pdf

1、作為一種新型非侵入可視化測量技術(shù)，電阻層析成像技術(shù)由于具有成本低、響應速度快等優(yōu)點，在工業(yè)與生物醫(yī)學等領域具有重要的應用價值，是目前公認比較成熟的電學層析成像技術(shù)。為了提高圖像重建速度與精度，本論文對電阻層析成像有限元模型以及圖像重建算法進行了深入研究：
　　1.利用改進遺傳算法離線優(yōu)化決定電阻層析成像整體剛度矩陣帶寬的有限元節(jié)點編號，相同實驗條件下，有效降低了整體剛度矩陣帶寬，從而提高了正問題計算效率。
　　2.分別以提高

2、正問題計算精度以及改善敏感場域內(nèi)電阻率/電導率均勻分布時靈敏度矩陣的病態(tài)程度為優(yōu)化目標，利用改進遺傳算法離線優(yōu)化電阻層析成像有限元模型拓撲結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果表明，優(yōu)化措施有效提高了正問題計算精度，降低了空場靈敏度矩陣條件數(shù)，從而有效提高了重建圖像分辨率。
　　3.引入改進粒子群算法慣性權(quán)重遞減策略確定修正牛頓-拉夫遜圖像重建算法中正則化因子，并提出一種采取靈敏度矩陣自動更新策略的改進牛頓-拉夫遜算法，在不影響成像精度的前提下，有效提高