金屬表面硅烷化處理工作液的水解工藝與穩(wěn)定性研究.pdf

1、金屬表面硅烷化處理技術(shù)與磷化等其它的表面處理技術(shù)比較,具有節(jié)能、環(huán)保、低成本、高效益等優(yōu)勢(shì),是金屬表面涂裝前處理行業(yè)新興工藝的發(fā)展方向之一。
　　本文以雙(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)胺(BAS)和乙烯基三乙酰氧基硅烷(VTAS)混合水解體系為研究對(duì)象,優(yōu)化混合硅烷的水解工藝條件并探討不同因素對(duì)硅烷工作液穩(wěn)定性的影響機(jī)制,研究過(guò)程中采用分光光度計(jì)法測(cè)定BAS的水解度,紅外光譜法表征工作液中成膜的關(guān)鍵組分Si-OH的含量,CuSO4點(diǎn)

2、蝕和動(dòng)態(tài)極化曲線(xiàn)法測(cè)定所制備硅烷膜的耐腐蝕性能,掃描電鏡法對(duì)硅烷膜形貌進(jìn)行表征。
　　本文采用直接配制、溶液稀釋和溶液混配三種水解工藝制備硅烷工作液,并對(duì)所制備硅烷膜的耐腐蝕性能進(jìn)行研究。研究表明:溶液濃度是硅烷水解度和工作液性能的關(guān)鍵因素,直接配制的溶液活性(BAS的水解度和Si-OH含量)和硅烷膜的耐腐蝕性能比溶液稀釋和溶液混配的好,而溶液稀釋和溶液混配的則沒(méi)有明顯區(qū)別。因此,直接配制是混合硅烷的最佳水解工藝。
　　在硅

3、烷工作液的穩(wěn)定性研究中,本文主要研究雜質(zhì)離子對(duì)其穩(wěn)定性的影響。結(jié)果表明:(1)過(guò)量雜質(zhì)離子會(huì)使硅烷溶液凝膠,雜質(zhì)對(duì)溶液凝膠的影響能力:NaOH>NaNO2>CaCl2>MeCl2>NaCl>FeCl3,其中,NaOH、NaNO2和FeCl3改變?nèi)芤旱膒H而導(dǎo)致溶液凝膠,NaCl的聚沉值為0.102mol/L,CaCl2、MeCl2的聚沉值為0.068mol/L;(2)陽(yáng)離子對(duì)硅烷膜耐腐蝕性能有明顯影響,而陰離子對(duì)其的影響不明顯,陽(yáng)離子的

4、影響順序是:Fe3+>Mg2+/Ca2+> Na+,對(duì)于同種陽(yáng)離子,隨著離子濃度的增加,硅烷膜的耐腐蝕時(shí)間下降;(3)在循環(huán)實(shí)驗(yàn)中,Fe3+在工作液中的累積是導(dǎo)致工作液失效的主要因素,使所制備的硅烷膜的耐腐蝕性能突然下降。這是由于2％硅烷溶液中硅烷的粒徑分布范圍是68.06-615.10nm,屬于非均相膠體分散系統(tǒng),雜質(zhì)離子對(duì)溶液的影響是靜電作用,也就是說(shuō)其對(duì)溶液的聚合僅起促進(jìn)作用,而不參與反應(yīng)。因此,雜質(zhì)離子電荷越高,濃度越大,對(duì)溶液