真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析、改善對策

1、真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析、改善對策真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析、改善對策一、膜強(qiáng)度一、膜強(qiáng)度膜強(qiáng)度是鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo)，也是鍍膜工序最常見的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度的不良（膜弱）主要表現(xiàn)為：①擦拭或用專用膠帶拉撕，產(chǎn)生成片脫落；②擦拭或用專用膠帶拉撕，產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落；③水煮15分鐘后用專用膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落；④用專用橡皮頭、1Kg力摩擦40次，有道子產(chǎn)生；⑤膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子。改善思路：基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的，其次

2、是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。膜強(qiáng)度不良的產(chǎn)生原因及對策：膜強(qiáng)度不良的產(chǎn)生原因及對策：①基片與膜層的結(jié)合。一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。由于基片表面在光學(xué)冷加工及清洗過程中不可避免地會(huì)有一些有害雜質(zhì)附著在表面上，而基片的表面由于光學(xué)冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(zhì)（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、拋光粉等，其中水汽為主要），很難以用一般的方法去除干凈，特別對于親水性好，吸附力強(qiáng)的基片尤其如此。當(dāng)膜料分子堆積在這

3、些雜質(zhì)上時(shí)，就影響了膜層的附著，也就影響了膜強(qiáng)度。此外，如果基片的親水性差、吸附力差，對膜層的吸附也差，同樣會(huì)影響膜強(qiáng)度。硝材化學(xué)穩(wěn)定性差，基片在前加工過程中流轉(zhuǎn)過程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層（也許是局部的、極薄的）。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良?；砻嬗信K污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn)等，局部膜層附著不良，造成局部膜牢固度不良。改善對策：㈠加強(qiáng)去油去污處理，如果是超聲波清洗，應(yīng)重點(diǎn)考慮去油功能，并保證去油

4、溶液的有效性；如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。㈡加強(qiáng)鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達(dá)到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水汽、油汽揮發(fā)。注意：溫度較高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰塵。所以，真空室的潔凈度要提高。否則基片在鍍前就有灰塵附著，除產(chǎn)生其它不良外，對膜強(qiáng)度也有影響。（真空中基片上水汽的化學(xué)解吸溫度在260℃以上）。但不是所有的零件都需要高溫烘烤，有的硝材溫度高了反而膜強(qiáng)度不高還會(huì)有色斑產(chǎn)生。這

5、與應(yīng)力以及材料熱匹配有較大的關(guān)系。㈢有條件時(shí)，機(jī)組安裝冷凝機(jī)（PLOYCOLD），除提高機(jī)組真空抽速外，還可以幫助基片水汽、油氣去除。㈣提高蒸鍍真空度，對于1米以上的鍍膜機(jī)，蒸鍍啟動(dòng)真空應(yīng)高于3103Pa，鍍膜機(jī)越大，蒸鍍啟動(dòng)真空更高。㈤有條件時(shí)，機(jī)組安裝離子源，鍍前轟擊，清潔基片表面，鍍膜過程輔助，有利于膜層的密實(shí)牢固。㈥膜料的去潮，將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥。㈦保持工作環(huán)境的干燥（包括鏡片擦拭、上傘工作區(qū)），清潔工作環(huán)境時(shí)不

6、能帶入過多的水汽。㈧對于多層膜，在膜系設(shè)計(jì)時(shí)，就要考慮第一層膜與基片的匹配，盡可能考慮用Al2O3膜料，該膜料對大部分基片有較好的吸附力。對于金屬膜，也可考慮第一層鍍Cr或Cr合金。Cr或Cr合金對基片也有較好的吸附力。㈨采取研磨液（拋光液）復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層（水解層）㈩有時(shí)候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對膜強(qiáng)度的提高有幫助，對提高膜表面的光滑度有積極意義。②膜層應(yīng)力：其中非升華材料最容易產(chǎn)生膜料點(diǎn)，因?yàn)橐簯B(tài)的膜料繼續(xù)加熱會(huì)沸騰，沸騰中膜料中

7、的氣泡溢出，飛濺膜料點(diǎn)的可能性加大。有時(shí)在材料預(yù)熔時(shí)就有很大的飛濺。膜料受潮，預(yù)熔或蒸鍍時(shí)水汽逸出，也會(huì)造成飛濺產(chǎn)生。下表是幾種常用膜料的升華特性材料名稱熔點(diǎn)溫度蒸發(fā)溫度飛濺可能備注ZnS19001100極小SiO217001600很小Al2O320202100小ZrO227152700小TiO218502000大Ta2O518002100較大MgF212661540大膜料不純、膜料參雜，即膜料中有了熔點(diǎn)溫度、蒸發(fā)溫度不一致的材料，這也

8、是膜料點(diǎn)產(chǎn)生的原因。改善思路：選用好的膜料、充分預(yù)溶、控制速率。改善對策：㈠選擇雜質(zhì)少的膜料㈡對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料㈢膜料在鍍前用網(wǎng)篩篩一下㈣精心預(yù)熔，MgF2務(wù)必熔透一次蒸鍍所需膜料，而Ta2O5和TiO2必須徹底熔透。㈤用一把電子槍鍍制幾種膜料時(shí)，防治坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。一旦發(fā)現(xiàn)坩堝膜料有污染，應(yīng)立即更換。㈥盡最大可能使蒸發(fā)舟、坩堝干凈。（勤打掃）。㈦選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。特別是非

9、升華材料，蒸發(fā)速率不宜高。㈧膜料去潮，將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥注意：有時(shí)膜層內(nèi)有一些細(xì)小的點(diǎn)子，有可能不是膜料點(diǎn)，而是灰塵點(diǎn)，處理的方法與膜料點(diǎn)不良是不同的，應(yīng)嚴(yán)格區(qū)分，分別處理。三、膜色差異三、膜色差異膜色差異有二種（不包含色斑），一種是整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。1上中下膜色不一致稱為整傘（罩）均勻性不好，也稱有傘差。主要產(chǎn)生原因是均勻性修正板（補(bǔ)正板）有問題。2傘片變形。也是膜色不

10、勻的原因之一，特別是使用了較久的傘片，以往是均勻的，慢慢變得不均勻了，傘片變形就可能是主要原因了。3膜料狀況的不一致，特別是升華和半升華膜料被打偏，挖坑等也會(huì)嚴(yán)重影響整罩和單片的均勻性。特別是有大量手工預(yù)熔時(shí)，各人的操作手法不一，得到的料況也會(huì)不一。改善思路：充分采用修正板的功能。改善對策：㈠調(diào)整修正板，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有二個(gè)蒸發(fā)源，可能的條件下，獨(dú)立使用各自的修正板，避免干擾。㈡條件許可，采用行星夾具。㈢傘片整形