CdCo系薄膜的制備及其磁光性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文運用射頻磁控濺射的方法在玻璃基片上制備了一系列的GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜。研究了濺射工藝參數(shù)值對GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的磁光性能的影響,對比了GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的磁光性能。
   在研究過程中,利用Ambious XP—2型臺階儀測定所制備薄膜樣品的厚度,運用磁光特性測試儀測量薄膜的磁光性能,使用振動樣品磁強計(VSM)來測量所制備薄膜樣品的磁性能,利用X射

2、線衍射儀對薄膜樣品進行物相分析。經(jīng)過X射線衍射儀(XRD)對薄膜樣品進行分析研究結(jié)果發(fā)現(xiàn):所制備出的一系列GdCo薄膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的衍射圖都沒有明顯的衍射峰,表明這兩種薄膜都是非晶態(tài)的。運用VSM測得GdCo單層膜的飽和磁矩都在0.007emu附近波動。濺射氣壓對GdCo單層膜的磁性能有一定的影響。隨著濺射氣壓的增大,GdCo單層膜的克爾角和矯頑力都會變化。厚度為100 nm的GdCo單層膜的磁性能優(yōu)于厚度為90 nm

3、的GdCo單層膜的磁性能。另外,退火后GdCo單層膜的表面應(yīng)力減小了,但是薄膜仍然為非晶結(jié)構(gòu),而且薄膜的矯頑力和克爾角也都沒有得到明顯的提高??偟膩碚f,對制備參數(shù)進行優(yōu)化以后,GdCo單層膜的矯頑力和克爾角仍然比較小,不適合用作高密度磁記錄載體。
   經(jīng)過研究還發(fā)現(xiàn),GdCo/frbFeCo雙層膜的磁光性能普遍優(yōu)于GdCo單層膜的磁光性能。運用控制變量法研究發(fā)現(xiàn),基片溫度、濺射氣壓、靶基距、薄膜厚度、濺射功率的增加,薄膜的矯頑

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