光學(xué)多層薄膜結(jié)構(gòu)及磁光性能研究.pdf

1、根據(jù)軟x射線光學(xué)多層薄膜結(jié)構(gòu)和磁光多層薄膜存貯原理,設(shè)計(jì)了用于軟x射線反射及紫外光反射的金屬多層薄膜和用于磁光盤(pán)記錄的磁光多層薄膜.采用磁控濺射成膜方法,制備系列多層薄膜和磁光多層薄膜.對(duì)金屬多層薄膜的光學(xué)反射特性、層狀結(jié)構(gòu)、表面及界面特性進(jìn)行了研究;對(duì)磁光多層薄膜的靜態(tài)磁光特性、磁光盤(pán)的動(dòng)態(tài)磁光特性進(jìn)行了研究.1.通過(guò)對(duì)Ti/Cu、Nb/Cu和Mo/Si多層薄膜結(jié)構(gòu)的研究,得到了Ti、Cu、Nb、Mo、Si薄膜濺射功率-濺射速率關(guān)系,

2、顯著提高了多層薄膜周期波長(zhǎng)和膜層厚度控制的準(zhǔn)確性.2.首次應(yīng)用小角X射線于Ti/Cu、Nb/Cu多層薄膜表面、界面粗糙度分析,發(fā)現(xiàn)軟x光和紫外光反射多層薄膜對(duì)界面非常敏感.3.在對(duì)金屬薄膜制備時(shí)的基片溫度、濺射氣氛等優(yōu)化工藝基礎(chǔ)上,制備出膜層界面清晰的多層薄膜,所制備的金屬多層薄膜具有超晶格結(jié)構(gòu).4.首次將磁光濺射靶的磁場(chǎng)分布由圓形改進(jìn)為棒骨形,解決了磁光靶材對(duì)表面磁場(chǎng)分布不均勻而導(dǎo)致濺射膜層不均勻的問(wèn)題,大幅度提高了磁光靶材表面磁場(chǎng)的

3、分布均勻性和膜層的均勻性.5.通過(guò)對(duì)磁光膜的薄膜成分、厚度均勻性隨Ar氣流量及濺射功率的變化研究,得到優(yōu)化濺射工藝.6.磁光多層薄膜中光學(xué)介質(zhì)層的均勻性直接影響磁光多層薄膜的磁光性能.7.通過(guò)對(duì)磁光多層薄膜磁光克爾效應(yīng)、矯頑磁場(chǎng)的靜態(tài)和動(dòng)態(tài)磁光特性研究,設(shè)計(jì)了具有實(shí)用價(jià)值的磁光多層薄膜膜層結(jié)構(gòu),研制出國(guó)內(nèi)第一張實(shí)用化磁光盤(pán)樣盤(pán),樣品性能達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),并具有可靠的信息讀寫(xiě)能力和信息保持能力.8.磁光記錄層材料在高溫應(yīng)力作用后,非晶態(tài)TbF