從拐點(diǎn)看我國(guó)轉(zhuǎn)型時(shí)期科技發(fā)展的軌跡.pdf

1、本文通過(guò)對(duì)我國(guó)科技發(fā)展中幾個(gè)指標(biāo)的定量分析，運(yùn)用數(shù)學(xué)中“平面曲線(xiàn)離散點(diǎn)集拐點(diǎn)的快速查找方法”，對(duì)我國(guó)科技發(fā)展中一些大的變化進(jìn)行綜合和分析，找出我國(guó)科技發(fā)展的轉(zhuǎn)折點(diǎn)即“科技拐點(diǎn)”，并以此為契機(jī)來(lái)闡述轉(zhuǎn)型時(shí)期我國(guó)科技發(fā)展的軌跡。 本文主要內(nèi)容是：（1）通過(guò)對(duì)衡量我國(guó)科技發(fā)展的幾個(gè)主要指標(biāo)：科學(xué)研究與實(shí)驗(yàn)發(fā)展經(jīng)費(fèi)投入(R&D)、企業(yè)科學(xué)研究與實(shí)驗(yàn)發(fā)展經(jīng)費(fèi)及其比重、科技論文產(chǎn)出情況、專(zhuān)利事業(yè)發(fā)展情況、高技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況、高技術(shù)產(chǎn)品在出口

2、貿(mào)易中的比重，從1996－2006這十一年的變化情況進(jìn)行分析，根據(jù)科技發(fā)展拐點(diǎn)的含義并結(jié)合數(shù)學(xué)方法找出其拐點(diǎn)大多在2001年。（2）對(duì)我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展的變化、科技活動(dòng)結(jié)構(gòu)的變化、科技政策的變化、衡量科技指標(biāo)的發(fā)展起點(diǎn)及展望這幾個(gè)方面的定性分析來(lái)進(jìn)一步論證科技拐點(diǎn)。（3）論述拐點(diǎn)后我國(guó)科技發(fā)展中存在的問(wèn)題和對(duì)這些問(wèn)題的原因分析。這些問(wèn)題分為三類(lèi)，第一是暫時(shí)性階段性的問(wèn)題：科研環(huán)境問(wèn)題和人才問(wèn)題。第二是科技發(fā)展中的頑固性并且對(duì)我國(guó)科技發(fā)展影響很

3、大的老問(wèn)題─“官本位”。第三是拐點(diǎn)后我國(guó)科技發(fā)展的新問(wèn)題：自主創(chuàng)新面臨的主要問(wèn)題。（4）“拐點(diǎn)”后我國(guó)科技發(fā)展的政策意義。首先，在科技拐點(diǎn)的新形勢(shì)下對(duì)我國(guó)科技政策的制定提出新的要求，入世后我國(guó)科技政策的相應(yīng)調(diào)整和科技政策制定過(guò)程中需要更多的公眾參與。其次，針對(duì)“拐點(diǎn)”后我國(guó)科技發(fā)展中存在的問(wèn)題提出相應(yīng)的政策措施。 本文的創(chuàng)新之處在于:（1）本文從一個(gè)新的角度來(lái)研究轉(zhuǎn)型時(shí)期我國(guó)科技發(fā)展的軌跡，并引入數(shù)學(xué)中“拐點(diǎn)”的含義和采用“平面