氧化鈦及其復(fù)合薄膜的制備和光學(xué)性能研究.pdf

1、氧化鈦具有優(yōu)異的性能和廣泛的應(yīng)用，怎樣改善和調(diào)制氧化鈦的性能，擴(kuò)大其應(yīng)用范圍，是研究的熱點(diǎn)領(lǐng)域。本文的目的在于采用磁控濺射技術(shù)制備氧化鈦及其復(fù)合薄膜，研究復(fù)合薄膜光學(xué)性能的可調(diào)制性，以滿足人們對(duì)新型功能薄膜不斷增長的應(yīng)用需求。采用直流反應(yīng)濺射方法制備了銳鈦礦相的氧化鈦薄膜，發(fā)現(xiàn)氧化鈦薄膜由棍狀晶粒組成，顆粒尺寸隨氧分壓的增加而增大，首次通過Metripol雙折射成像技術(shù)分析了氧化鈦光學(xué)異向性和晶粒聚合狀況，橢圓偏振儀分析發(fā)現(xiàn)薄膜的折射率

2、隨氧分壓的增大而減小。隨著鋅含量的增加，氧化鈦/氧化鋅復(fù)合薄膜由非晶態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)閱蜗噔佀徜\，然后形成鈦酸鋅和氧化鋅混合相，薄膜的折射率和光學(xué)帶隙隨著鋅含量的增加而減小，而消光系數(shù)增大。首次在室溫襯底條件下獲得六方菱形鈦酸鋅薄膜，發(fā)現(xiàn)襯底溫度升高導(dǎo)致顆粒尺寸增大，出現(xiàn)晶粒聚合的現(xiàn)象，折射率隨著襯底溫度的升高而降低，而消光系數(shù)增大。首次在800℃退火處理的立方相鈦酸鋅薄膜中觀察到一個(gè)源于氧缺陷和鋅離子空位的熒光峰。氧化鎂/氧化鈦非晶復(fù)合薄膜的折