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1、基于薄膜材料易于集成化、微型化，在巨磁阻抗效應(yīng)器件方面有著重大的應(yīng)用前景，本文采用磁控濺射法制備了FeCuNbSiB/SiO<,2>/Cu/SiO<,2>/FeCuNbSiB/SiO<,2>型復(fù)合結(jié)構(gòu)多層膜，利用XRD譜、表面磁光克爾效應(yīng)(SMOKE)和磁導(dǎo)率頻譜對(duì)由濺射功率和退火溫度引起的材料磁性能的變化，以及對(duì)巨磁阻抗效應(yīng)的影響進(jìn)行了研究。 1．當(dāng)改變制備磁性層的濺射功率時(shí)，隨著濺射功率的增加，多層膜樣品的平面矯頑力逐漸減小
2、，軟磁性能提高，巨磁阻抗效應(yīng)增大。當(dāng)濺射功率為150W時(shí)，制備態(tài)樣品出現(xiàn)最大的阻抗效應(yīng)，橫向阻抗效應(yīng)為53％，縱向阻抗效應(yīng)為44.3％；但濺射功率增加至200W后，由于濺射應(yīng)力增大，樣品出現(xiàn)了一定的垂直各向異性，巨磁阻抗效應(yīng)明顯減弱。 2．退火溫度對(duì)FeCuNbSiB多層膜的磁性能影響很大。當(dāng)退火溫度為400℃時(shí)，樣品的極向克爾磁滯回線表現(xiàn)出較大矯頑力、高矩形比的垂直各向異性，導(dǎo)致樣品的軟磁性能減弱，巨磁阻抗效應(yīng)顯著下降。540
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