2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、21世紀(jì)在顯示領(lǐng)域是平板顯示的時代,而絕大多數(shù)的平板顯示器件,都是有源矩陣液晶顯示器件(AMLCD)。在AMLCD像素中引入薄膜晶體管(TFT)開關(guān)元件,可大大提高顯示器件性能,傳統(tǒng)的非晶硅薄膜晶體管遷移率低、光敏性強(qiáng),多晶硅薄膜晶體管制備工藝復(fù)雜、成本高,因此限制了它們在更廣闊的范圍中應(yīng)用。將氧化物半導(dǎo)體作為有源層來制作TFT用于平板顯示中,不僅能獲得較高遷移率,而且制造工藝簡單,顯示出了巨大的應(yīng)用前景。
   本文針對非晶硅

2、TFT的不足,研究了全透明的氧化物薄膜晶體管,實驗首先研究了In2O3、InZnO、ZnSnO和Ta2O5等幾種金屬氧化物的電學(xué)性質(zhì),為制作TFT器件選取合適的材料和最優(yōu)的生長條件,不同條件下生長的In2O3和InZnO薄膜載流子濃度都在1019~1020cm-3之間,電阻率在10-3~10-2Ω·cm之間,而ZnSnO薄膜載流子濃度在1015~1019cm-3之間,電阻率在10-1~102Ω·cm之間,從器件的性能方面考慮選取In2O

3、3作為源漏電極,ZnSnO作為有源層,絕緣層采用高k材料Ta2O5,柵極材料為ITO。制備Ta2O5薄膜最優(yōu)的氣體參數(shù)是生長氣壓為2.0Pa,O2/Ar比例為2/20,剝離Ta2O5薄膜后500℃空氣退火。
   實驗分別制備了以SiO2和Ta2O5作為絕緣層的全透明ZnSnO-TFT器件,所制作的器件具有較好的飽和特性和柵極偏壓調(diào)控能力,SiO2作為絕緣層的器件遷移率μn=3.0cm2/(V·s),開關(guān)比Ion/Ioff為8×

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