基于平面工件盤結構的光學薄膜厚度均勻性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、光學薄膜厚度均勻性對于光學薄膜制備而言是很關鍵的一個因素,膜厚均勻性不僅決定了光學薄膜制備量產的數(shù)量,而且對薄膜的光學性能有重要影響,特別是對于膜厚均勻性要求極為嚴格的DWDM(密集型波分復用)極窄帶干涉濾光膜等超多層、高精度的光學薄膜,以及漸變?yōu)V光片等對膜厚分布有特殊要求的光學薄膜。光學薄膜界的前輩們早已認識到膜厚均勻性的重要性,并深入研究了各種條件下的膜厚理論分布情況,對本文進行膜厚均勻性的研究分析提供了有力的理論支持。 本

2、文對膜厚均勻性的研究主要針對平面工件盤結構,重點研究了影響膜厚分布最重要的兩個因素:蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性和蒸鍍系統(tǒng)的幾何配置。首先利用數(shù)學積分法建立一系列的數(shù)學模型來模擬分析了點蒸發(fā)源、面蒸發(fā)源等不同蒸發(fā)特性時的膜厚分布;并同樣利用積分建模法來模擬分析平面工件盤、旋轉平面工件盤和行星式平面工件盤的膜厚分布情況;然后利用數(shù)學計算軟件(№thCAD)和行星式平面工件盤的膜厚分布公式計算分析了HVC800DA型鍍膜機的理論膜厚均勻性;最后通過蒸鍍

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