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文檔簡介
1、本文采用陰極電沉積技術,在TiO2/Al2O3膜上沉積Cu2O,將n型半導體TiO2和p型半導體Cu2O復合,制備出了Cu2O/TiO2異質(zhì)結(jié)復合薄膜。以苯酚為模擬污染物,研究了復合薄膜的制備條件、太陽光下的光催化活性和光電催化活性,對其影響因素進行了討論;分別對Cu2O的沉積機理以及Cu2O/TiO2光催化降解苯酚機理進行了初步探討;并對光催化與光電催化過程作了動力學研究。利用X射線粉末衍射分析(XRD)、掃描電鏡分析(SEM)、X射
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