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1、本文通過(guò)地面等效模擬試驗(yàn)建立質(zhì)子和電子輻照下GaAs/Ge太陽(yáng)電池電學(xué)參數(shù)退化的基本規(guī)律,使用PC1D程序擬合電池的光譜響應(yīng)和I-V特性曲線,在此基礎(chǔ)上通過(guò)模擬GaAs/Ge太陽(yáng)電池的暗I-V特性曲線分析其串聯(lián)電阻和并聯(lián)電阻的變化規(guī)律,進(jìn)而揭示GaAs/Ge太陽(yáng)電池電學(xué)性能的退化機(jī)理。在一定的質(zhì)子輻照注量下,隨著質(zhì)子能量的增高GaAs/Ge太陽(yáng)電池的串聯(lián)電阻逐漸減小,而并聯(lián)電阻先減小后增大,在70 keV質(zhì)子輻照下達(dá)到最小。串聯(lián)電阻的變
2、化主要取決于發(fā)射區(qū)的損傷程度,40keV質(zhì)子主要停留在GaAs電池的發(fā)射區(qū),70 keV質(zhì)子只有部分粒子停留在發(fā)射區(qū),主要輻照損傷區(qū)域?yàn)榻Y(jié)區(qū),100和170keV質(zhì)子透過(guò)發(fā)射區(qū)和結(jié)區(qū),主要停留在基區(qū)。此外,隨著入射質(zhì)子能量的增加,其在電池內(nèi)部產(chǎn)生的輻照缺陷濃度逐漸降低也是串聯(lián)電阻變化的一個(gè)主要原因。GaAs/Ge太陽(yáng)電池并聯(lián)電阻的變化主要取決于電池的結(jié)區(qū)損傷,因此70 keV質(zhì)子輻照下并聯(lián)電阻最小。在一定的電子輻照注量下,隨著入射電子能
3、量的增高,GaAs/Ge太陽(yáng)電池的串聯(lián)電阻逐漸增大,而并聯(lián)電阻逐漸減小。由于高能電子具有較強(qiáng)的穿透能力,不同能量的電子在電池內(nèi)部產(chǎn)生的輻照缺陷濃度分布都是均勻的。隨入射電子能量的增高,其在電池內(nèi)部產(chǎn)生的空位缺陷濃度逐漸增高是串聯(lián)電阻和并聯(lián)電阻發(fā)生變化的主要原因。此外,對(duì)GaAs/Ge太陽(yáng)電池多數(shù)載流子濃度和少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度進(jìn)行數(shù)值分析表明,在一定的輻照注量下,隨入射質(zhì)子能量的增高,多子去除率和少子擴(kuò)散長(zhǎng)度損傷系數(shù)逐漸減小;隨入射電子能
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