曲面光學(xué)零件氣囊拋光工藝實(shí)驗(yàn)研究.pdf

1、曲面光學(xué)元件在光學(xué)工程的應(yīng)用中有很多優(yōu)點(diǎn)，可以減少光學(xué)系統(tǒng)的復(fù)雜性、尺寸以及重量。為了獲得高精密曲面光學(xué)表面，人們發(fā)明了多種拋光工藝方法。然而現(xiàn)有的拋光方法存在的缺欠，促使人們不斷探索新的加工方法。氣囊式拋光是近十幾年出現(xiàn)的一種新穎的拋光方法，該方法采用了新型的半柔性的氣囊作為拋光工具并采用“進(jìn)動(dòng)”的運(yùn)動(dòng)形式，具有高精度、高效率的加工特點(diǎn)，應(yīng)用前景非常廣闊，值得我們深入的研究。
　　氣囊拋光工藝控制方法是獲得高精密高質(zhì)量光學(xué)表面工

2、件的關(guān)鍵。本文采用氣囊式的拋光方法，針對(duì)具有回轉(zhuǎn)對(duì)稱性質(zhì)的曲面光學(xué)元件，研究了曲面光學(xué)元件的拋光接觸區(qū)、材料去除率、表面粗糙度。
　　首先根據(jù)氣囊拋光曲面光學(xué)元件的原理，推導(dǎo)了曲面光學(xué)元件拋光區(qū)半徑的表達(dá)式，并對(duì)其主要影響因素進(jìn)行分析，同時(shí)闡明了曲面拋光區(qū)半徑和平面拋光區(qū)半徑之間的聯(lián)系。在一系列實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上，研究了拋光工藝參數(shù)對(duì)氣囊拋光曲面光學(xué)元件和平面光學(xué)元件拋光接觸區(qū)特征影響的區(qū)別，得出了工藝參數(shù)在氣囊拋光曲面光學(xué)元件和平面光學(xué)

3、元件時(shí)取值的特點(diǎn)，確定了獲得有效曲面拋光區(qū)的最佳參數(shù)選取范圍。
　　其次，研究了氣囊拋光頭轉(zhuǎn)速、工件曲率半徑、氣囊壓縮量、氣囊充氣壓力以及拋光液濃度等工藝參數(shù)對(duì)曲面光學(xué)零件材料去除率的影響規(guī)律，在正交實(shí)驗(yàn)及其分析的基礎(chǔ)上得出了工藝參數(shù)對(duì)材料去除率的影響規(guī)律，并給出了參數(shù)選取依據(jù)。
　　最后，對(duì)影響氣囊拋光光學(xué)曲面表面粗糙度的各個(gè)因素（氣囊拋光頭轉(zhuǎn)速、工件曲率半徑、氣囊壓縮量、氣囊充氣壓力以及拋光液濃度）進(jìn)行了工藝實(shí)驗(yàn)。通過(guò)正