AlN基納米多層膜的生長結(jié)構(gòu)、超硬機制及高溫穩(wěn)定性研究.pdf

1、上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文AlN基納米多層膜的生長結(jié)構(gòu)、超硬機制及高溫穩(wěn)定性研究姓名：趙文濟申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：材料學(xué)指導(dǎo)教師：李戈揚20070201上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文摘要–ii–界面以及由此所產(chǎn)生的交變應(yīng)力場應(yīng)該是多層膜產(chǎn)生超硬效應(yīng)的重要原因和必要條件。通過高溫退火實驗研究了AlN單層膜和AlNSiO2納米多層膜的高溫穩(wěn)定性。結(jié)果表明，在900℃下退火時，AlNSiO2納米多層膜的生長結(jié)構(gòu)未產(chǎn)生明顯改變；多層膜在800℃時會開

2、始氧化，氧化速率隨退火溫度的提高而增大。多層膜的硬度亦隨氧化層的厚度增加而逐漸降低，但未受到氧化的部分仍然保持較高硬度。對照AlN單層膜退火后的微結(jié)構(gòu)與硬度變化可以認為，SiO2層的加入對多層膜高溫抗氧化性的增加所起到的作用不大，而該多層膜抗的氧化性主要取決于組成多層膜主體調(diào)制層材料本身（即AlN）的抗氧化性。關(guān)鍵詞：AlNSiO2納米多層膜，AlNSi3N4納米多層膜，六方晶體模板相，非晶晶化，超硬效應(yīng)，交變應(yīng)力場，高溫穩(wěn)定性，高溫抗