版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、過渡族金屬氮化物(MeN)薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)及良好的抗磨損性能,在刀具、耐磨部件等眾多工業(yè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。隨著現(xiàn)代制造業(yè)的發(fā)展,實(shí)際生產(chǎn)對(duì)薄膜的硬度、熱穩(wěn)定性等性能提出了更高的要求,目前通過納米多層膜技術(shù)和添加B、Al、Si、Cr等元素是進(jìn)一步提高氮化物(MeN)薄膜性能的有效途徑。 因此,本文采用磁控反應(yīng)濺射方法制備了一系列不同調(diào)制周期的AlN/NbN和AlN/ZrN納米多層膜以及不同Al含量的(Zr,Al)N薄膜。
2、研究了AlN/NbN納米多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能,從材料熱力學(xué)角度分析了AlN/NbN多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)并與AlN/TiN體系作了比較,討論了多層膜發(fā)生塑性變形時(shí)位錯(cuò)可能借助的運(yùn)動(dòng)機(jī)制并計(jì)算了異結(jié)構(gòu)對(duì)薄膜硬度增加的貢獻(xiàn);研究了AlN/ZrN納米多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能,討論了AlN/ZrN納米多層膜幾種可能的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu);研究了Al含量對(duì)(Zr,Al)N薄膜的結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能及高溫抗氧化性的影響。 研究結(jié)果如下: AlN/N
3、bN納米多層膜的調(diào)制周期從3.0nm變化至26.0nm,AlN層和NbN層均為異結(jié)構(gòu)共格生長(zhǎng),其共格關(guān)系為{111}fcc-NbN‖{0001}h-AllN,錯(cuò)配度為0.14%。顯微硬度維持在30GPa左右。在不同的調(diào)制周期AlN始終以六方相(h-AlN)的形式存在即使厚度為1.5nm時(shí)也沒有出現(xiàn)立方相這與AlN/TiN體系不同,原因在于AlN/NbN體系中AlN以六方相生長(zhǎng)時(shí)體系的能量比立方相的低。AlN/NbN納米多層膜發(fā)生塑性變形
4、時(shí)位錯(cuò)可能存在兩種運(yùn)動(dòng)機(jī)制,分析認(rèn)為位錯(cuò)借助穿過層界的機(jī)制運(yùn)動(dòng)更符合實(shí)際情況,在該機(jī)制下異結(jié)構(gòu)對(duì)薄膜硬度增加的貢獻(xiàn)為14.7%,表明異結(jié)構(gòu)對(duì)納米多層膜硬度的影響不大。 AlN/ZrN納米多層膜的調(diào)制周期從30nm減小到2nm,AlN層和ZrN層始終保持各自穩(wěn)定的六方結(jié)構(gòu)和面心立方。調(diào)制周期從6nm變化至2nm,AlN/ZrN多層膜的AlN與ZrN很可能形成異結(jié)構(gòu)外延結(jié)構(gòu),其外延關(guān)系為{111}fcc-ZrN‖{0001}h-Al
5、N。在不同的調(diào)制周期,多層膜的硬度始終在ZrN單層膜和AlN單層膜之間,彈性模量比兩者都小。 當(dāng)Al含量為0at%~20.31at%之間時(shí),(Zr,Al)N薄膜是B1型(NaCl)單相結(jié)構(gòu);當(dāng) Al含量為31.82at%時(shí),同時(shí)出現(xiàn)B1和B4型(ZnS)雙相結(jié)構(gòu);當(dāng)Al含量超過36.82at%,以B4結(jié)構(gòu)為主。隨著Al含量的增加,薄膜晶面間距減小,晶格常數(shù)變?。槐∧さ挠捕认仍黾雍鬁p小,原因是復(fù)合膜結(jié)構(gòu)發(fā)生轉(zhuǎn)變。隨著Al含
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- (Ti,Al)N-AlN-VN-AlN-(Ti,Al)N-VN納米多層膜的微結(jié)構(gòu)與超硬效應(yīng)研究.pdf
- (Ti,Al)N-VN,VN-AlN納米多層膜的界面結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能研究.pdf
- Al-AlN納米多層膜及氮化銅光記錄薄膜材料的制備與性能研究.pdf
- 含AlN納米多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)和超硬機(jī)制研究.pdf
- AlN-Si-,3-N-,4-納米多層膜及Zr-Si-N復(fù)合膜的制備與性能研究.pdf
- TiN-AlN納米多層膜的制備與性能研究.pdf
- Ti-TiN-Zr-ZrN多層膜及Al薄膜對(duì)鋼基體疲勞性能的影響.pdf
- ZnO和AlN薄膜結(jié)構(gòu)及其性能的研究.pdf
- 超薄Al膜和AlN薄膜的光學(xué)性質(zhì)及相關(guān)問題的研究.pdf
- 聚酰亞胺-納米AlN雜化薄膜的制備和性能研究.pdf
- 磁控濺射制備TiN-AlN、TiN-NbN多層納米硬質(zhì)膜及其性能研究.pdf
- ZrN基納米復(fù)合膜及ZrCN-VN納米多層膜的微結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 合成參數(shù)對(duì)ZrN-W和CrN-ZrN納米多層膜的結(jié)構(gòu)及其性能的影響.pdf
- ZrN-Al-Si-N多層膜與Al-Si-C-N復(fù)合膜的制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射和多弧離子鍍方法合成ZrB-,2--AlN、CrN-AlN納米多層膜的研究.pdf
- CrN薄膜與CrN-NbN納米多層膜的制備及其性能研究.pdf
- W-N單層膜、W-C-N復(fù)合膜及Ti-Al-Si-N-W-N多層膜的制備、微結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf
- TaN-基納米復(fù)合膜和多層膜的微結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- ZAO(ZnO:Al)與AlN薄膜的結(jié)構(gòu)與特性的研究.pdf
- 適用于多層膜高頻SAW器件的AlN薄膜制備與表征.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論