2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、離子束濺射技術(shù)經(jīng)過近40年發(fā)展,已經(jīng)成為一類非常重要的薄膜制備技術(shù)。由于離子束濺射技術(shù)污染小,成膜條件易于精確控制,離子束能量和束流可以精確調(diào)節(jié),有利于獲得高質(zhì)量薄膜等優(yōu)點(diǎn)而備受關(guān)注。離子束濺射薄膜制備技術(shù)是指由惰性氣體電離產(chǎn)生的離子束轟擊被濺射靶材,濺射出的靶材料再沉積到基片上形成薄膜的制備技術(shù)。此外,在薄膜沉積過程中通入所需反應(yīng)氣體,反應(yīng)氣體原子在等離子體中離化后,可以沉積形成一定化學(xué)配比的薄膜。當(dāng)前,離子束濺射技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于各

2、種功能薄膜材料的制備,特別是在DWDM光通訊系統(tǒng)、各種光學(xué)薄膜元件系統(tǒng)以及半導(dǎo)體器件當(dāng)中。 本文面向離子束濺射鍍膜技術(shù)對(duì)離子束濺射源進(jìn)行了研究,詳細(xì)介紹了國內(nèi)外離子束濺射鍍膜發(fā)展現(xiàn)狀,論述了離子束濺射源的基本原理。自主研制了離子束濺射源,并使用該離子源在玻璃基底上鍍制了Cu、Zn膜,為下一步鍍制ZnO薄膜打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。之后采取反應(yīng)濺射沉積方法在玻璃基底上鍍制ZnO薄膜,ZnO純度達(dá)到86%,而且具有較好的結(jié)晶擇優(yōu)取向。

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