離子束濺射制備不學(xué)薄膜的研究.pdf

1、離子束濺射以其出色的工藝穩(wěn)定性、制備的薄膜性能優(yōu)越等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備高性能光學(xué)薄膜的重要手段。本課題在實(shí)驗(yàn)室自制的設(shè)備上對(duì)離子束濺射的工藝進(jìn)行了系統(tǒng)研究，對(duì)在不同工藝條件下制備的Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的特性包括光學(xué)特性、力學(xué)特性、薄膜微結(jié)構(gòu)和表面形貌進(jìn)行了深入研究，并系統(tǒng)地分析了離子源參數(shù)對(duì)材料特性的影響，以獲得比較理想的制備條件。與采用離子輔助沉積和電子束蒸發(fā)制備的樣品作了對(duì)比，結(jié)果顯示離子束濺射制備的薄膜光學(xué)特性和微結(jié)

2、構(gòu)更加優(yōu)越，并通過(guò)膜厚均勻性修正，使其成為一種出色的光學(xué)薄膜沉積方式。
　　 對(duì)離子束濺射制備多層光學(xué)薄膜展開(kāi)討論。對(duì)離子束濺射沉積速率的特性進(jìn)行了研究，驗(yàn)證了其速率穩(wěn)定和重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，為時(shí)間監(jiān)控方式提供了實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)。研究了利用時(shí)間監(jiān)控和晶振監(jiān)控的方法對(duì)多層光學(xué)薄膜進(jìn)行制備。針對(duì)晶振監(jiān)控方式，研究了在不同材料上的沉積特性差異，并提出了對(duì)高低折射率材料分別采用不同晶片進(jìn)行膜厚監(jiān)控的方法，并詳述其制備方法。對(duì)飛秒激光器用于色散補(bǔ)償?shù)?/p>