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文檔簡介
1、本實(shí)驗(yàn)以水稻(Oryza sativa L)為材料,分析了CK、Cd、Cd+Zn、Cd+Zn+AT(CAT抑制劑,氨基三唑)和Cd+Zn+DMTU(H2O2清除劑,二甲基硫脲)5種處理?xiàng)l件下,水稻根系生長和基因表達(dá)的情況。結(jié)果顯示,單一AT、Cd+Zn和Cd+Zn+AT3種處理均促進(jìn)根系的生長;相反,單一DMTU和Cd+Zn+DMTU顯著抑制了根系的生長。除AT處理外,根系的生長變化與H2O2含量的變化趨勢基本一致,表明H2O2對根系生
2、長有明顯的調(diào)節(jié)作用。各種處理中伊文思藍(lán)與H2O2染色深淺及部位所呈現(xiàn)出的規(guī)律基本一致。Cd脅迫下,添加Zn既減少了Cd在根系中的積累,又減少了H2O2在根尖分生區(qū)的產(chǎn)生,分生區(qū)細(xì)胞受傷害的程度也減輕了。
利用半定量RT-PCR從轉(zhuǎn)錄水平綜合分析了上述幾種處理下不同發(fā)育時(shí)期生長素相關(guān)基因家族(OsARFs、OsPINs、OsPID、OsIAAs)、細(xì)胞周期核心基因家族(OsCycs、OsCDKs等)和OsMAPK基因家族表達(dá)的變
3、化。結(jié)果表明,處理9天時(shí),Cd+Zn處理與Cd+Zn+AT處理相比有58個(gè)基因表達(dá)上調(diào),最明顯的有OsIAA21、OsCycF1;2和OsMAPK8;有66個(gè)基因表達(dá)下調(diào),如OsIAA31。Cd+Zn處理與Cd+Zn+DMTU處理相比較有49個(gè)基因表達(dá)量增多,如OsIAA18;有72個(gè)基因表達(dá)減少,如OsIAA16。處理13天時(shí),Cd+Zn處理與Cd+Zn+AT處理相比較有68個(gè)基因表達(dá)增強(qiáng),如OsARF15;有56個(gè)基因表達(dá)減弱,如O
4、sKRP1。Cd+Zn處理與Cd+Zn+DMTU處理相比較有61個(gè)基因表達(dá)量增多,最明顯的是OsCDK;1;有65個(gè)基因表達(dá)量減少,如OsCKL9。這些結(jié)果暗示,H2O2與基因表達(dá)調(diào)節(jié)有關(guān)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果還說明,基因表達(dá)與發(fā)育時(shí)期有關(guān),如OsKRP4和OsDP1在處理9天時(shí)表達(dá),而在13天時(shí)不表達(dá)。
本實(shí)驗(yàn)總體結(jié)果表明,Cd脅迫下,添加Zn明顯改變了根系的生長和基因的表達(dá),這種變化與H2O2密切相關(guān),暗示H2O2是調(diào)節(jié)該條件下根系生
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