基于全變差正則化法的腔內(nèi)電阻抗成像逆問(wèn)題研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、腔內(nèi)電阻抗成像（EIE）技術(shù)是在電阻抗成像（EIT）技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的功能成像技術(shù)。EIE首先在器官或組織內(nèi)部施加激勵(lì)，然后對(duì)感興趣組織表面的電位信號(hào)進(jìn)行測(cè)量，利用逆問(wèn)題求解算法，重建組織的阻抗分布圖像。
　　本論文首先分析了腔內(nèi)電阻抗成像的研究現(xiàn)狀和技術(shù)原理，并對(duì)EIE的計(jì)算原理進(jìn)行了綜述。然后，對(duì)EIE正問(wèn)題邊界元法進(jìn)行了推導(dǎo)，推導(dǎo)了分層均勻多媒質(zhì)場(chǎng)的邊界元公式，建立了二維同心圓邊界元模型，并計(jì)算了正問(wèn)題，為逆問(wèn)題求解打下了

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