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文檔簡介
1、無鉛化和微型化是電子封裝的兩大發(fā)展趨勢。在微型化的驅(qū)動下,傳統(tǒng)球柵陣列封裝技術(shù)(BGA:Ball Grid Array)中互連焊點(diǎn)的節(jié)距、焊盤尺寸以及焊點(diǎn)體積都將大大降低。焊點(diǎn)幾何特征是微型化封裝設(shè)計(jì)的重要部分,包括焊料體積、上/下接觸角(θ)、焊點(diǎn)高度(SOH:Stand-off Height)和外形輪廓等,其中焊點(diǎn)互連高度是最為重要的設(shè)計(jì)參數(shù)之一。
互連界面適量厚度金屬間化合物(IMC:Intermetallic Co
2、mpound)是焊接良好的標(biāo)志,但由于IMC的本征脆性,過厚的IMC 將導(dǎo)致焊點(diǎn)機(jī)械性能的降低。微型焊點(diǎn)互連高度的變化將對焊點(diǎn)微觀組織有極大影響,對互連界面IMC形貌、成分及厚度有至關(guān)重要的作用,并且界面處IMC 占焊點(diǎn)體積比例將隨互連高度變化而變化,這將對互連可靠性造成直接影響。
本文通過自行設(shè)計(jì)一套精確控制焊點(diǎn)互連高度的裝置,獲得不同互連高度的Cu/Ni/Au/焊料/Au/Ni/Cu結(jié)構(gòu)焊點(diǎn),選取Sn3.5Ag0.5C
3、u和Sn3.5Ag焊料作為對比分析,研究互連高度變化過程中界面IMC形貌、厚度及其占焊點(diǎn)比例的變化以及這些變化對焊點(diǎn)抗剪切和沖擊性能的影響;采取Cu/Ni/Au/Sn3.5Ag/Cu結(jié)構(gòu),具有針對性的對界面IMC厚度進(jìn)行研究。結(jié)果表明,伴隨焊點(diǎn)互連高度降低,界面IMC厚度增加,占焊點(diǎn)體積比例增加,焊點(diǎn)抗剪切和沖擊性能下降。
另外,由于微型焊點(diǎn)互連高度降低,將增大焊點(diǎn)兩側(cè)焊盤鍍層金屬交互擴(kuò)散作用的發(fā)生。兩側(cè)鍍層金屬元素將通過
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