鋁材料的SIMS無標樣定量分析.pdf

1、目前，SIMS廣泛用于固體材料的痕量元素分析，特別是半導體和薄膜產(chǎn)品。SIMS的離子源是一種直接從固體樣品上產(chǎn)生離子，不需事先經(jīng)過蒸發(fā)。SIMS的一次離子束可以聚焦到小于1微米。通過控制一次離子束作用于樣品表面上的條件，可以進行微區(qū)分析、橫向分布測量和深度剖析等。 SIMS分析中的二次離子產(chǎn)額被定義為一個入射離子轟擊樣品時所產(chǎn)生的二次離子數(shù)。不同元素的離子產(chǎn)額變化幅度會達到幾個數(shù)量級。對于離子產(chǎn)額影響最大的因素分別是離子化勢(正

2、離子)和電子親和勢(負離子)。 本課題采用質(zhì)譜界所公認的同位素豐度比以及已知的各元素的二次離子產(chǎn)額，進行鋁材料中一些雜質(zhì)的無標樣定量分析。然后與原子發(fā)射光譜儀(直讀光譜儀)及輝光放電質(zhì)譜法等其它方法的測試結(jié)果進行比對，探討二次離子無標樣定量分析的方法和可行性。 采用SIMS無標樣定量分析進行鋁材定量的分析結(jié)果基本能夠反映出分析鋁材中各元素的組成情況，可以認為SIMS的無標樣定量分析有一定的現(xiàn)實意義。盡管SIMS的分析結(jié)果