微帶隔離器焊接失效機(jī)制的分析和仿真.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、本文通過(guò)對(duì)微波鐵氧體基片與底板的焊接失效進(jìn)行分析,對(duì)焊接后基片破裂、薄膜微帶電路膜層脫落和產(chǎn)品電氣性能不合格等失效進(jìn)行原因分析。
  1、基片破裂的原因?yàn)椋?br>  1)基片本身質(zhì)量問(wèn)題;
  2)基片在加工、制作或焊接過(guò)程中,會(huì)有各種應(yīng)力存在,當(dāng)應(yīng)力釋放,超過(guò)基片的承受能力時(shí)就會(huì)斷裂。這些應(yīng)力主要包括:
  將大基片切割為若干小基片的過(guò)程,導(dǎo)致基片邊緣存在應(yīng)力;焊接前對(duì)基片進(jìn)行的打磨,使基片邊緣存在應(yīng)力;焊接空洞、

2、基片及底板間由于熱膨脹系數(shù)的不同,形成應(yīng)力。
  3)底板焊接面的表面不平度較大,導(dǎo)致焊接過(guò)程中基片斷裂。
  2、當(dāng)薄膜與基底界面之間的化學(xué)鍵合力較低時(shí)主要依靠物理結(jié)合力和機(jī)械結(jié)合力進(jìn)行結(jié)合。在焊接過(guò)程中,薄膜與基底界面之間的結(jié)合力產(chǎn)生劇烈變化,降低至小于薄膜的張力時(shí),微帶電路脫落。
  3、焊接過(guò)程中形成的空洞,由于大小及位置的影響,導(dǎo)致基片微波接地不好,造成器件電氣性能異常。
  根據(jù)焊接失效的原因分析,采

3、用以下措施避免失效出現(xiàn):
  1、底板盡量選用與基片線脹系數(shù)接近的材料加工,并對(duì)其表面不平度加以控制;
  2、在焊接工藝中控制焊接升、降溫速度,以減少焊接殘余應(yīng)力,或采用共晶爐焊接工藝,以盡量減少焊接空洞的大小和數(shù)量;
  3、濺射工藝中,采用拋光襯底、制作面心立方結(jié)構(gòu)的TaN薄膜降低薄膜內(nèi)應(yīng)力及在薄膜與襯底界面兩側(cè)原子之間形成化學(xué)鍵合的方法,保證電路與基片的附著力;電鍍金工藝中,采用電鍍前對(duì)基片表面兩次擦洗工藝方法

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