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文檔簡介
1、信息技術的飛速發(fā)展要求存儲器必須具有存儲密度高、速度快、不揮發(fā)和能耗低等特點。目前的主流存儲技術Flash以其讀寫速度慢、擦寫次數(shù)相對較少和制備工藝瓶頸的局限不再適合未來存儲技術的發(fā)展要求。基于硫系化合物的相變存儲器(Phase—changeRandomAccessMemory,簡稱PRAM)具有不揮發(fā)性、循環(huán)壽命長(大于1012次)、功耗低、讀寫速度快、抗輻射以及和現(xiàn)有的CMOS工藝兼容等優(yōu)點,成為當前存儲器領域的研發(fā)熱點。
2、盡管相變存儲技術在近幾年取得了飛速發(fā)展,但是器件Reset電流過大一直是阻礙其商業(yè)化的主要問題之一。當前解決Reset電流過大的研究主要集中在兩個方面:一方面是縮小存儲單元的尺寸,減小相變區(qū)域相變部分的體積,由此我們引入納米技術,研究制備出適合PRAM的相變納米材料,可以減小器件儲存單元的幾何尺寸,從而實現(xiàn)PRAM的高密度儲存;另一方面是開發(fā)新型相變存儲材料,優(yōu)化材料性能。 本文從制備適合PRAM的相變納米材料方面著手,采用水熱
3、法制備出Sb2S3和Sb2Se3納米棒;在開發(fā)新型相變存儲材料方面,制備出Ge—Bi—Te(GBT)系列塊體材料。主要研究內(nèi)容與結果如下: (1)以SbCl3和Na252O3為反應物,用水熱合成法成功的制備了直徑約100~500nm,長為幾十微米的單晶納米棒。通過EDS、SEM、XRD和TEM對產(chǎn)物的成份、形貌和結構分析顯示納米棒是Sb2S3化合物,屬正交晶系,晶體沿[001]方向生長,在此基礎上對納米棒的形成機理和相關性能進行
4、了研究。 (2)以SbCl3和Na2Se2O3為反應物,以氨水為溶液的PH值調(diào)節(jié)劑,聚乙烯醇為表面活化劑,采用水熱合成法成功的制備了直徑約200nm,長為幾十微米整齊均一的納米棒,樣品的XRD分析顯示,納米棒為正交晶系的Sb2Se3晶體。此外就反應溫度、時間和溶液PH值等對納米棒形貌的影響進行了分析,并對產(chǎn)物的形成機理和相關性能做了初步的探究。 (3)采用固相反應法合成了Ge—Bi—Te系列塊體材料。對所合成的Ge—Bi
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