無掩模光刻系統(tǒng)的研究與設(shè)計.pdf

1、光刻是微納加工的核心技術(shù)之一,從其發(fā)展歷史看,先后經(jīng)歷了從接近/接觸式光刻到分步投影光刻再到掃描投影光刻。掩模成本在整個光刻成本中占有的份額也不斷攀升。于是，如何在光刻技術(shù)中降低掩模成本，采用無掩模光刻技術(shù)已成為光刻工程師研究的一個重要課題。同時，隨著MOEMS(Micro-Optical-Electro-Mechanical System)技術(shù)的發(fā)展和器件制作對低成本、靈活、高效的需求,無掩模光刻技術(shù)已成為人們研究的熱點(diǎn)。
　　

2、本文基于數(shù)字化灰度掩模曝光技術(shù)，設(shè)計了一種基于DMD的無掩模光刻系統(tǒng)。使用DMD作為空間光調(diào)制器來生成數(shù)字化掩模圖形，與投影光刻系統(tǒng)相結(jié)合，發(fā)展一種數(shù)字光刻技術(shù)。該技術(shù)具有高效、靈活、快速、低成本等特點(diǎn)，與其它光刻技術(shù)相比其潛在優(yōu)勢十分明顯。
　　本論文主要進(jìn)行以下工作：
　　首先，確定系統(tǒng)的總體設(shè)計方案,闡述光刻系統(tǒng)的工作原理，并對DMD數(shù)字光刻系統(tǒng)各個部分進(jìn)行分析和設(shè)計。該系統(tǒng)共由三部分組成：上位機(jī)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和光學(xué)系