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文檔簡介
1、隨著新一輪國際柔性印刷電子技術(shù)的發(fā)展,電路線寬要求越來越細(xì),對印刷電子材料及應(yīng)用技術(shù)提出了更高的要求。其關(guān)鍵是如何在更大幅面的柔性基板上,以更低的成本實(shí)現(xiàn)特征尺寸更小的柔性電子器件。隨著器件尺寸進(jìn)一步縮小,要求交聯(lián)導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)的線寬達(dá)納米量級(jí)。因此電路線寬特征尺寸在亞微米、甚至納米級(jí)的柔性導(dǎo)電電路的研制成為必然。
本論文結(jié)合納米壓印技術(shù)和低維納米材料填充技術(shù),制作圖形化超微細(xì)柔性透明導(dǎo)電電路。首先利用課題組激光圖形化設(shè)備iGrap
2、her,制作圖形化柔性透明基底。并采用低溫等離子體表面處理技術(shù),改變?nèi)嵝酝该骰腢V膠表面特性。然后采用納米涂布及刮涂技術(shù),使低維納米材料填充至網(wǎng)絡(luò)溝槽中,獲得微細(xì)金屬網(wǎng)格型透明導(dǎo)電薄膜。并對不同深寬比網(wǎng)絡(luò)溝槽的填充特性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究。另外,在刮涂填充技術(shù)的基礎(chǔ)上,提出利用附加電場實(shí)現(xiàn)低維納米材料的可控性填充。實(shí)驗(yàn)表明,電場驅(qū)動(dòng)填充可明顯改善低維納米材料填充的方向選擇性,使得任意取向的溝槽結(jié)構(gòu)均獲得均勻填充,從而獲得導(dǎo)電性較高的超微細(xì)透
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