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文檔簡介
1、本文采用磁控共濺射法在Si(111)單晶襯底上制備ZrxCu1-x二元非晶合金薄膜，采用X射線衍射(XRD)技術(shù)和原子力顯微(AFM)技術(shù)研究了薄膜非晶形成隨成分的變化規(guī)律，各種濺射條件對薄膜結(jié)構(gòu)的影響以及非晶合金薄膜的晶化過程，并通過納米壓痕技術(shù)對薄膜的納米硬度和彈性模量進行了測定。 XRD分析結(jié)果顯示，在35≤x≤65成分范圍內(nèi)，隨x的增加ZrxCu1-x薄膜合金的非晶形成能力持續(xù)增強，表現(xiàn)出與相應(yīng)的塊體合金不同的變化規(guī)律。
2、在0.1～0.5Pa范圍內(nèi)，隨濺射氣壓的降低，薄膜易于獲得非晶結(jié)構(gòu)。襯底溫度的升高和偏置電壓的施加均不利于非晶結(jié)構(gòu)的形成。 利用XRD和AFM分別對退火態(tài)Zr65Cu35非晶合金薄膜進行的結(jié)構(gòu)和表面形貌分析，確定其晶化溫度在300～350℃之間。研究了襯底-薄膜界面形核和薄膜表面形核兩種形核方式，其中前者可使晶粒長成按一定取向排列的矩形形態(tài)。 利用納米壓痕儀表征了薄膜的力學(xué)性能，結(jié)果表明，Zr65Cu35非晶態(tài)合金薄膜具
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