噁二唑橋基梯形聚苯基硅氧烷的合成與表征.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、設(shè)計合成含有活性基團的對稱1,3,4-噁二唑類衍生物小分子,利用超分子模板調(diào)控逐步偶聯(lián)/聚合的方法合成了新型的嗯二唑橋基梯形聚苯基硅氧烷,這種材料能夠兼顧1,3,4-噁二唑類小分子和梯形聚合物的優(yōu)點,從而成為一種新型的復(fù)合型電致發(fā)光材料。為其性能研究提供實驗依據(jù)。
   主要內(nèi)容如下:
   1.以制備噁二唑橋基聚苯基硅氧烷為目的,本文設(shè)計合成了一種1,3,4-噁二唑小分子單體(M1)——1,4-二[(4-烯丙氧基苯基)

2、-1,3,4-噁二唑基]苯。通過對反應(yīng)條件的探討,建立了最佳的合成方法,并對其結(jié)構(gòu)及熒光性進行了表征。
   2.本文設(shè)計合成了另一種1,3,4-噁二唑小分子單體(M2)——2,5-二(4-氨基苯基)-1,3,4-嗯二唑。通過對合成路線、還原劑等因素的探討,建立了最佳的合成方法,并對其結(jié)構(gòu)及熒光性進行了表征。
   3.采用超分子構(gòu)筑調(diào)控逐步偶聯(lián)/聚合的方法,成功合成了以2,5-二(4-氨基苯基)-1,3,4-嗯二唑為橋

3、基的梯形聚苯基硅氧烷(OXD-Ph-OLPS)。通過XRD,FT-IR,29Si-NMR,VPO,熒光光譜等分析手段對聚合物的結(jié)構(gòu)進行了表征。XRD譜圖中有兩個衍射峰,位于2θ=6.58、19.31。分別對應(yīng)梯形高分子的平均寬度(1.35nm)和厚度(0.46nm,),說明聚合物具有良好的梯形結(jié)構(gòu);29Si-NMR譜圖中位于δ=-21.78ppm處的峰代表梯形主鏈上硅原子峰[Ph(NH)S1O2/2],其基線半峰寬Δ1/2<1ppm,說

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