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文檔簡介
1、高硅鋼具有高磁導率、低鐵損和低磁致伸縮等優(yōu)異的軟磁性能,在電力和電子等工業(yè)領域有廣泛需求,但因硅增加而引起的高脆性使其難以進行常規(guī)軋制。目前,已有多種高硅鋼制備方法,其中只有化學氣相沉積(CVD)法在日本用于小規(guī)模生產,其主要問題是:溫度高和鹵化物含量高引起的設備和板材表面腐蝕嚴重、后續(xù)溫軋工藝(用于降低因鹵化物腐蝕而增加的表面粗糙度)復雜、硅鋼基板鐵量損失大及FeCl2氣體污染環(huán)境等。
本文采用異步軋制在3%無取向硅鋼表面制
2、備納米結構,以表面高體積分數(shù)的晶界、位錯和空位等缺陷作為硅原子擴散通道,以表面納米晶的高活性加快化學反應,大幅度地降低無取向硅鋼的滲硅溫度和滲硅源中鹵化物的含量,從而解決CVD法存在的問題。為了優(yōu)化滲硅技術、獲得致密的滲硅層,本文重點開展了以下研究工作:對3%無取向硅鋼進行不同速比的異步軋制,在板材表面獲得尺寸不同的納米晶組織;采用固體粉末滲硅法,設計升溫+保溫+爐冷、升溫+保溫+空冷和保溫+空冷三種工藝,在Si+0~3Wt.%鹵化物中
3、、T1~T4℃的溫度范圍內進行10~30min的滲硅處理;用XRD、SEM、EDS和TEM等技術對表層的物相組成、橫截面的形貌和硅成分分布、表面納米晶組織等進行了測試分析,系統(tǒng)地研究了滲硅工藝參數(shù)(溫度、時間、鹵化物含量)對滲硅行為的影響。主要結論如下:
1.經(jīng)過20道次、壓下量為92%的異步軋制后,板材表面形成了取向接近隨機分布的納米晶組織,速比為~1.31和~1.18軋制板材表層的晶粒尺寸分別為10~30nm和30~50n
4、m。
2.使用固體滲硅技術,在T1~T4℃、Si+0.5~3Wt.%鹵化物中退火10~30min,可在異步軋制樣品表面獲得厚度為數(shù)十微米以上的滲硅層,證明異步軋制能大幅度地降低3%無取向硅鋼的滲硅溫度和滲劑中鹵化物的含量。
3.提高滲硅溫度、保溫時間、鹵化物含量等有助于加快滲硅進程,直至板材達到通體15Wt.%硅。
4.滲硅層的物相多由FeSi和Fe3Si組成,其中FeSi相含量隨著溫度的升高而增加,而與保
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