版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、鈦合金如Ti6Al4V由于具有比強度高、生物相容性好、耐蝕性能優(yōu)良等優(yōu)點,而被廣泛用于生物醫(yī)用領(lǐng)域。然而其耐磨性差,植入人體后有發(fā)生感染的危險。為此,從材料表面著手,尋求更為理想的表面改性工藝是極有前途的一種方法。本文通過直流磁控反應(yīng)濺射方法,采用Ti-Cu鑲嵌靶在鈦合金表面濺射沉積不同Cu含量的Ti/Cu/N薄膜,并對薄膜的組織結(jié)構(gòu)及基本力學(xué)性能進行測試,重點研究Cu含量對鍍膜樣品的膜基結(jié)合性能、摩擦磨損性能和抗菌性能的影響,并對薄膜
2、的抗菌機理進行了初步探討,得出以下結(jié)論:
(1)三種不同Cu含量的Ti-Cu合金靶均獲得了均勻致密的Ti/Cu/N復(fù)合薄膜,表面改性層均由Ti/Cu膜層和Ti/Cu/N膜層組成,并且Ti/Cu/N膜層中均形成了TiN物質(zhì)。另外,隨著靶材中Cu棒材所占面積比的增加,薄膜中Cu含量隨之增多,主要元素Ti、N含量也發(fā)生變化。
(2)薄膜中Cu含量的變化,對膜層的表面形貌產(chǎn)生了一定的影響。宏觀上,樣品呈現(xiàn)不同的色澤;微觀上,
3、隨著銅含量的增加,薄膜的粗糙度增大。
(3)在0.25 N載荷下,鍍膜樣品的表面復(fù)合硬度提高,隨著Cu含量的增加,硬度減小。
(4)對鍍膜樣品的膜基結(jié)合能力進行研究,得到不同樣品薄膜的臨界載荷Lc分別約為19.5N,18.2 N和17.1N,差別較小。但樣品的劃痕失效形貌差距較大,而劃痕過程中樣品的失效形貌均體現(xiàn)薄膜的塑性變形性能,并且都出現(xiàn)了薄膜內(nèi)聚力失效的失效形式。
(5)對鍍膜樣品進行摩擦磨損性能對比
4、與分析,在大氣和在Hank's溶液環(huán)境介質(zhì)中,濺射沉積鍍膜后樣品的摩擦系數(shù)都低于基材,表明在兩種不同的摩擦條件下,薄膜具有明顯的減摩作用。同時樣品C2在兩種環(huán)境介質(zhì)中的表現(xiàn)出了良好的耐磨性能。但在Hank's溶液環(huán)境介質(zhì)中樣品和基體的磨損性能都比大氣條件下好。
(6)對鍍膜樣品進行抗菌性能研究,并與Ti6Al4V基體進行對比,研究結(jié)果表明薄膜有很好的抗菌效果,且Cu在抗菌過程中起到關(guān)鍵作用,Cu含量越高,樣品抗菌效果越好。根據(jù)
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射Cu-TiN納米抗菌多層膜制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射制備Ti膜的結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 磁控濺射TiN-Cu-Zn抗菌納米多層膜與復(fù)合膜制備及性能.pdf
- 磁控濺射Ti-Ag-(N)薄膜制備及其性能研究.pdf
- 磁控濺射制備Al膜和Cu膜的結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 脈沖偏壓電弧離子鍍沉積Ti-Cu-N納米復(fù)合膜.pdf
- 磁控濺射Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜的制備及摩擦學(xué)性能研究.pdf
- 反應(yīng)磁控濺射制備(Ti,Al)N薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射法制備TI-Si0-N薄膜及其性能研究.pdf
- 直流磁控濺射制備(Ti,Al)N薄膜相結(jié)構(gòu)與劃痕性能研究.pdf
- 鎂合金磁控濺射沉積Ta(N)-Ti-Si多層膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射Ti-W-N和Ti-W-N-MoS2薄膜的制備及摩擦學(xué)性能研究.pdf
- 磁控濺射制備(Ti,Al)N基超硬質(zhì)薄膜及其性能的研究.pdf
- 磁控濺射Cu2O-TFT的制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射法PVDF-Cu合金膜的制備及其結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 離子束輔助中頻非平衡磁控濺射制備Ti-N-C膜的研究.pdf
- 直流磁控濺射法制備Ti-Si-N硬質(zhì)薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射TiN-Ag抗菌納米復(fù)合膜制備及其性能研究.pdf
- 磁控濺射制備Cu-Zr合金薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備Cr-N系蔳膜及其性能評價.pdf
評論
0/150
提交評論