AZ51鎂合金的低電壓微弧氧化研究.pdf

1、鎂合金具有密度小、比強(qiáng)度和比剛度高、減震性好、電磁屏蔽性優(yōu)良等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于汽車、電子通訊和航空航天等領(lǐng)域。但是由于其耐蝕性較差，使其應(yīng)用受到限制。常規(guī)的化學(xué)氧化和陽極氧化等表面處理方法對(duì)鎂合金表面雖有一定的保護(hù)作用，但其耐蝕性、外觀質(zhì)量等方面仍然不盡如人意。微弧氧化技術(shù)作為一種新興的、綠色表面處理技術(shù)能夠在鎂合金表面形成硬度高、耐磨耐蝕性好的氧化膜層而得到廣泛應(yīng)用。
　　本文以AZ51鎂合金為研究對(duì)象，采用低交流電壓微弧氧化

2、技術(shù)，制備出致密性良好的氧化膜層，解決了傳統(tǒng)微弧氧化技術(shù)存在的“處理時(shí)間長(zhǎng)、膜層表面放電孔洞大”的問題。并在此條件下研究了工藝參數(shù)與膜層厚度之間的關(guān)系，對(duì)不同厚度的微弧氧化膜層進(jìn)行微觀形貌分析和耐蝕性分析，得到如下結(jié)論:
　　(1)處理液濃度、輸出電壓、氧化時(shí)間、處理液溫度與膜層厚度之間存在非線性關(guān)系;
　　(2)膜層主要由MgO和MgF2組成，其最大致密層厚度為30μm。且膜層耐蝕性與致密層厚度呈正比，即當(dāng)膜層厚度為30μ