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文檔簡(jiǎn)介
1、能源是人們賴以生存的基礎(chǔ),在新能源的開(kāi)發(fā)中,太陽(yáng)能具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。太陽(yáng)能的熱轉(zhuǎn)化,是利用太陽(yáng)能的主要途徑之一,在太陽(yáng)能熱發(fā)電領(lǐng)域,有極大的應(yīng)用。太陽(yáng)能選擇性吸收涂層,是熱發(fā)電集熱器的核心元件,該類涂層的開(kāi)發(fā),是太陽(yáng)能熱轉(zhuǎn)化課題中研究的重點(diǎn)之一。優(yōu)質(zhì)的選材,合理的結(jié)構(gòu),簡(jiǎn)單的工藝,良好的性能是研制涂層的主要目標(biāo)和方向。目前已開(kāi)發(fā)出的涂層均存在一些缺陷,尤其表現(xiàn)在制備成本、生產(chǎn)工藝和中高溫?zé)岱€(wěn)定性等方面。因此,本文探索性的從尋求新材料體系、
2、優(yōu)化制備工藝、熱穩(wěn)定性分析等方面作了相關(guān)研究。由于純金屬W和Mo對(duì)太陽(yáng)光具有明顯的選擇性吸收性,且由它們組成的涂層具備良好的中高溫穩(wěn)定性,因此本課題選擇在涂層中摻入Mo元素,以制備具有一定中高溫?zé)岱€(wěn)定性能且選擇性吸收效果良好的MoO2-NiO-Al2O3涂層,并在此基礎(chǔ)上制備了W-Al2O3涂層,以期促進(jìn)我國(guó)太陽(yáng)能光熱技術(shù)的發(fā)展。
本課題采用溶膠凝膠的方法,通過(guò)均勻設(shè)計(jì)法設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案,在石英基底上成功的制備出MoO2-NiO-
3、Al2O3涂層和W-Al2O3涂層,并通過(guò)TG-DSC測(cè)試儀器、X射線衍射儀、掃描電子顯微鏡和分光光度計(jì)檢測(cè)分析涂層的性能。研究和分析了組分配比、混合溶膠的體積和熱處理制度對(duì)涂層性能的影響。并考察了填充因子和Ni摻雜對(duì)涂層光學(xué)性能的影響,以及涂層的熱穩(wěn)定性能。
在MoO2-NiO-Al2O3涂層的研究中,探討了涂層中各組分配比和混合溶膠的體積對(duì)涂層光學(xué)性能的影響,研究發(fā)現(xiàn):當(dāng)涂層的高、中、低摻雜層的填充因子分別為0.68,0.
4、60,0.25,高摻雜、中摻雜、低摻雜、減反射層各層的溶膠體積分別為0.14ml、0.16ml、0.12ml、0.26ml時(shí),涂層具有最佳的吸收性能,其吸收率為86.6%,發(fā)射率為66.3%,品質(zhì)因子為1.31。在MoO2-NiO-Al2O3涂層研究的基礎(chǔ)上,將涂層的組成成分改為W和Al2O3,采用同樣的方法,探討W-Al2O3涂層中各組分配比和混合溶膠的體積對(duì)涂層光學(xué)性能的影響,研究表明:當(dāng)涂層的高、中、低摻雜層的填充因子分別為0.9
5、5,0.43,0.18,高摻雜、中摻雜、低摻雜、減反射層各層的溶膠體積分別為0.20ml,0.18ml,0.22ml,0.08ml,涂層具有最佳的光吸收性能,其吸收率約達(dá)91%,發(fā)射率為79%,品質(zhì)因子為1.14。相比較兩種涂層,在同樣的制備方法條件下,從優(yōu)選出的性能最佳樣品的品質(zhì)因子可以看出,較W-Al2O3涂層而言,MoO2-NiO-Al2O3涂層具有更優(yōu)的太陽(yáng)能選擇性吸收性能。
基于MoO2-NiO-Al2O3涂層和W-
6、Al2O3涂層優(yōu)選分析的基礎(chǔ)上,對(duì)這兩種涂層的性能分別進(jìn)行了研究分析。對(duì)于MoO2-NiO-Al2O3涂層,通過(guò)研究熱處理對(duì)涂層結(jié)構(gòu)、形貌、光學(xué)性能的影響,提出了涂層的最佳燒結(jié)升溫速率。研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)采用5℃/min勻速升溫時(shí),MoO2-NiO-Al2O3涂層具有最好的光學(xué)性能,其品質(zhì)因子為1.32。
對(duì)于W-Al2O3涂層,通過(guò)利用缺少不同填充因子摻雜層為單一變量,探究填充因子對(duì)涂層光學(xué)性能的影響。并在維持原W-Al2O3涂層
7、制備參數(shù)不變的基礎(chǔ)上,通過(guò)對(duì)涂層摻雜Ni金屬紅外高反射層,探究摻入Ni金屬層后,涂層光學(xué)性能的變化。研究發(fā)現(xiàn):填充因子對(duì)復(fù)合涂層光吸收性能的影響隨太陽(yáng)光波段的不同而不同,在紫外可見(jiàn)光波段,缺少了中等大小填充因子層的涂層,具有更高的吸收率,在近紅外波段,缺少了最大填充因子層的涂層,具有更高的吸收率。當(dāng)原涂層摻雜Ni金屬層后,磁控濺射時(shí)間t=10min時(shí),α/ε達(dá)到最佳,其值為1.15,比原涂層的α/ε提升了1%。
為了對(duì)選擇性吸
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