燒結(jié)NdFeB真空鍍鋁及耐蝕性能研究.pdf

1、燒結(jié)NdFeB磁體以其優(yōu)異的磁性能被廣泛應(yīng)用于電子、計算機(jī)、汽車、機(jī)械、醫(yī)療器械等各個領(lǐng)域。但磁體易腐蝕的缺點限制了其進(jìn)一步的應(yīng)用。為了提高燒結(jié)NdFeB磁體的抗腐蝕性能，本文分別采用了磁控濺射和電子束蒸發(fā)的方法制備了磁體的防護(hù)層，并就磁場下磁體及其防護(hù)層的抗腐蝕性能進(jìn)行了研究。
　　采用直流磁控濺射方法在燒結(jié)NdFeB磁體表面沉積純Al薄膜，研究了濺射氣壓、濺射功率和Al薄膜的厚度對薄膜的結(jié)構(gòu)與性能的影響。隨著濺射氣壓的升高，A

2、l薄膜的沉積速率下降，薄膜表面變得疏松多孔，抗腐蝕性能逐漸下降;隨著濺射功率的增加，Al薄膜的沉積速率明顯增加，但Al顆粒排列雜亂疏松，薄膜的抗腐蝕性能下降;隨著膜厚的增加，Al薄膜表面變得致密光滑，直到膜厚超過6.69μm后，Al顆粒開始長大，薄膜變得粗糙，致密度降低。當(dāng)膜厚為6.69μm時，Al薄膜具有優(yōu)異的抗腐蝕性能。直流磁控濺射制備Al薄膜的最佳工藝參數(shù)是:濺射氣壓0.5Pa，濺射功率51W，薄膜厚度6.69μm。
　　采

3、用電子束蒸發(fā)方法在燒結(jié)NdFeB磁體表面沉積Al2O3防腐層，研究了Al2O3薄膜的厚度及沉積速率對薄膜的抗腐蝕性能的影響，并與電子束蒸發(fā)制備的Al薄膜進(jìn)行對比。Al2O3薄膜能在一定程度上提高NdFeB的耐蝕性能。隨著膜厚的增加，Al2O3薄膜的抗腐蝕性能并無明顯提高，但適當(dāng)提高沉積速率，可顯著提高薄膜的抗腐蝕性能。
　　為了進(jìn)一步了解燒結(jié)NdFeB及其防護(hù)層在實際應(yīng)用中的抗腐蝕性能，對磁體及其防護(hù)層在磁場作用下的腐蝕行為進(jìn)行了