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文檔簡介
1、半導(dǎo)體納米材料由于其特有的光電性能,且在未來器件小型化發(fā)展趨勢方面具有潛在的應(yīng)用價(jià)值,因而一直是納米材料科學(xué)中的研究熱點(diǎn)。作為一種重要的寬禁帶半導(dǎo)體材料,GaN納米材料的可控制備、發(fā)光性能以及能帶結(jié)構(gòu)中深能級(jí)行為一直是研究的熱點(diǎn)問題。同時(shí),最近的研究發(fā)現(xiàn),GaN基納米材料具有吸收可見光使水解離產(chǎn)生氫的性能,這使得不同形貌GaN納米材料的制備和發(fā)光性能的研究再次獲得廣泛關(guān)注。本文采用固相源化學(xué)氣相傳輸法,通過金屬Ga和氨氣直接反應(yīng),無催化
2、劑輔助的條件下,在石英襯底上制備出了多種形貌的GaN納米結(jié)構(gòu),利用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、拉曼(Raman)光譜儀以及光致發(fā)光(PL)譜對(duì)所制備的GaN納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征和發(fā)光性能的研究。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴在0.1個(gè)大氣壓范圍內(nèi),無催化劑輔助的石英襯底上能夠制得GaN納米結(jié)構(gòu)。納米結(jié)構(gòu)是由納米晶沿著其適宜的生長方向堆疊而成,由于不同生長溫度導(dǎo)致金屬Ga蒸汽壓濃度不同,因而合成的納米結(jié)構(gòu)具有形貌多
3、樣性。GaN納米結(jié)構(gòu)的Raman光譜中,A1(LO)模式相對(duì)于體相產(chǎn)生了紅移,可歸因于聲子限域效應(yīng)。GaN納米結(jié)構(gòu)的光致發(fā)光包括本征發(fā)光和缺陷發(fā)光,其缺陷發(fā)光機(jī)制為淺施主能級(jí)到價(jià)帶或淺施主能級(jí)到深受主能級(jí)間的輻射發(fā)光。⑵常壓時(shí),無催化劑輔助條件下,在鎵源附近和石英襯底上均制得GaN納米結(jié)構(gòu)。通過改變升溫方式、溫度、氨氣流量以及反應(yīng)時(shí)間等手段能夠控制纖鋅礦GaN納米結(jié)構(gòu)的形貌。隨著反應(yīng)溫度的升高,晶粒尺寸變大。當(dāng)合成溫度達(dá)到900℃時(shí),晶
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