三氧化鎢基光學氫敏膜的制備及性能研究.pdf

1、重慶大學碩士學位論文三氧化鎢基光學氫敏膜的制備及性能研究姓名：范小花申請學位級別：碩士專業(yè)：應用化學指導教師：侯長軍20070420重慶大學碩士學位論文 中文摘要本文分別用x 一衍射儀、隧道一原子力顯微鏡、雙光束紫外可見分光光度計、X射線光電子能譜儀等儀器表征了按最優(yōu)化工藝制備的三氧化鎢基摻雜薄膜。x 一衍射結果表明：用溶膠凝膠法和直流磁控濺射法相結合制備的摻鉑三氧化鎢薄膜的晶化溫度比純的三氧化鎢薄膜晶化溫度高，在4 6 0 ℃下退火處

2、理后才有少量的晶態(tài)結構存在；分光光度計測試結果表明：純W 0 3 凝膠薄膜有很高的透光率( > 9 0 ％) ，但摻鈀或摻鉑后薄膜透光率下降明顯；且在相同條件下制備的摻鈀的薄膜比摻鉑的薄膜的透光率要高些；摻鉑薄膜樣品在1 0 0 ℃、2 0 0 ℃、3 0 0 ℃、4 0 0 ℃、5 0 0 ℃退火處理后的透光率隨著退火溫度的升高，薄膜透光率逐漸降低，這與不摻雜的三氧化鎢薄膜具有相同的性質(zhì)；隧道一原子力顯微鏡測試結果表明：用溶膠凝

3、膠法和磁控濺射法這兩種方法相結合制備的摻鉑三氧化鎢薄膜經(jīng)1 0 0 ℃退火處理后表面比較平整，三氧化鎢分子呈四面體結構，經(jīng)4 0 0 ℃退火處理表面更加平整一些，三氧化鎢分子轉變?yōu)榱⒎襟w結構。X P S 氫敏機理試驗表明，摻鉑薄膜對氫氣有顯著的著色一退色效應，其氣致變色過程中，W 針、W 5 十和W ”價間電荷的轉換是引起W 0 3 。薄膜變色的主要原因。用創(chuàng)新工藝制備的三氧化鎢基摻雜薄膜，綜合了溶膠凝膠法與直流磁控濺射法的優(yōu)點，其薄膜