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文檔簡介
1、在應(yīng)對半導(dǎo)體制造技術(shù)不斷發(fā)展的潮流時,傳統(tǒng)非揮發(fā)性存儲器件的連續(xù)浮柵結(jié)構(gòu)制約了其向更小尺寸發(fā)展,需要在保持浮柵存儲器件工作機(jī)理不變的前提下,繼續(xù)發(fā)展浮柵存儲器。納米晶體浮柵存儲器件是解決傳統(tǒng)浮柵存儲器件面臨的小尺寸限制的有效辦法,這為納米晶體浮柵存儲器件的發(fā)展提供了極大的動力。
本文闡述了納米晶體浮柵存儲器件的發(fā)展背景,包括非揮發(fā)性存儲器的市場前景和發(fā)展形勢,以及納米晶體浮柵存儲器件的優(yōu)勢等;介紹了非揮發(fā)性存儲器件的理論知識和
2、納米晶體浮柵存儲器件的納米特性;并利用工藝仿真軟件Tsuprem4和器件仿真軟件 Medici對硅納米晶體浮柵存儲器件建模和仿真了其電學(xué)特性等;試制了不同溝道長度的N溝道硅納米晶體浮柵存儲器件并對其做了常規(guī)的測試分析。
本文具體完成以下工作:
?。╝)、利用Tsuprem4建立了硅納米晶體浮柵存儲器件的仿真模型,然后利用Medici對模型的電學(xué)特性進(jìn)行仿真分析,另外研究了硅納米晶體浮柵存儲器件的幾個重要結(jié)構(gòu)參數(shù)對存儲器
3、件的存儲特性(主要是存儲窗口)的影響,對硅納米晶體浮柵存儲器件的數(shù)據(jù)保持能力進(jìn)行了Matlab建模分析。
(b)、討論了硅納米晶體的制備方法和利用標(biāo)準(zhǔn)2μm CMOS工藝制備硅納米晶體浮柵存儲器件的工藝流程,并將離子注入和退火制備硅納米晶體的方法加入NTU-MFL2μmNWell CMOS中的Single-Poly-Single-Metal(SPSM)標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝中,成功試制了一批具有不同溝道長度的N溝道硅納米晶體浮柵存儲
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