Al-CuO含能橋多點(diǎn)點(diǎn)火能力研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、為了研究 Al/CuO含能橋多點(diǎn)點(diǎn)火能力,采用磁控濺射鍍膜技術(shù)制備 Al/CuO含能橋,利用掃描電子顯微鏡測(cè)量出Al膜的沉積速率為9.50nm/min,CuO膜的沉積速率為26.06nm/min。通過(guò)對(duì)掩膜精度、含能橋相對(duì)靶材位置的分析,進(jìn)而得出與含能橋電阻的關(guān)系。結(jié)果表明:掩膜板長(zhǎng)寬比越大,含能橋電阻越大。位于濺射中心的地方含能橋電阻較小。同時(shí)觀察出掩膜板與基片貼合程度發(fā)現(xiàn)兩物質(zhì)間貼合的有縫隙時(shí)會(huì)出現(xiàn)衍射現(xiàn)象,影響含能橋質(zhì)量。

2、  設(shè)計(jì)含能橋橋型,制備Al/CuO含能橋,分析含能橋?yàn)R射順序、薄膜厚度、橋反應(yīng)區(qū)長(zhǎng)寬比以及橋反應(yīng)區(qū)面積對(duì)含能橋發(fā)火電壓、點(diǎn)火電壓的影響,結(jié)果表明:含能橋?yàn)R射順序?yàn)锳l/CuO膜的點(diǎn)火電壓較低,點(diǎn)火能力較強(qiáng);含能橋薄膜總厚度2.000μm時(shí)點(diǎn)火電壓較低為198.5V;含能橋反應(yīng)區(qū)面積越大,點(diǎn)火電壓越低,其中橋反應(yīng)區(qū)面積為1.2996mm2時(shí),點(diǎn)火電壓較低;含能橋反應(yīng)區(qū)長(zhǎng)寬比越小,點(diǎn)火電壓越低,其中橋反應(yīng)區(qū)長(zhǎng)寬為0.6×1.7mm2,點(diǎn)火

3、電壓較低。
  對(duì)于平行放置時(shí)的多點(diǎn)含能橋,觀察橋反應(yīng)區(qū)破損程度分析含能橋長(zhǎng)寬比、含能橋Al/CuO摩爾比以及發(fā)火電壓對(duì)相鄰兩橋間的安全距離的影響,結(jié)果表明:含能橋長(zhǎng)寬為0.8×1.28mm2,相鄰橋心的安全距離較大,為2.28mm;含能橋Al/CuO摩爾比為-16%時(shí),相鄰橋心的安全距離較大,為1.7mm;隨著含能橋發(fā)火電壓的增大,相鄰橋心間的距離逐漸增大,當(dāng)發(fā)火電壓增大到一定時(shí),相鄰橋心間距離將趨近于定值1.8mm;采用含能橋

4、多點(diǎn)點(diǎn)火時(shí),點(diǎn)火電壓逐漸減低。
  利用高速攝像儀來(lái)研究含能橋的輸出特性時(shí),發(fā)現(xiàn)含能橋在點(diǎn)燃鈍感點(diǎn)火藥的全過(guò)程分為三個(gè)階段:含能橋電爆階段、含能橋點(diǎn)燃鈍感點(diǎn)火藥階段以及點(diǎn)火藥燃燒階段。采用雙橋點(diǎn)火時(shí),所出現(xiàn)的大火花時(shí)間小于單點(diǎn)點(diǎn)火時(shí)最大火花時(shí)間,判斷出雙橋點(diǎn)火能力較大。運(yùn)用PCC軟件處理得到,當(dāng)含能橋反應(yīng)區(qū)面積為0.7396mm2時(shí),經(jīng)過(guò)2.160ms點(diǎn)燃點(diǎn)火藥;當(dāng)面積為0.3025mm2時(shí),經(jīng)過(guò)7.300ms點(diǎn)燃點(diǎn)火藥,結(jié)果表明

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