基于外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力提升的高新技術(shù)企業(yè)專利戰(zhàn)略研究.pdf

1、隨著經(jīng)濟(jì)全球化和知識(shí)經(jīng)濟(jì)時(shí)代的到來(lái)，高新技術(shù)產(chǎn)品出口開(kāi)始成為衡量一個(gè)國(guó)家經(jīng)濟(jì)實(shí)力、科技實(shí)力以及出口實(shí)力的重要指標(biāo)。在這樣一個(gè)大背景下，我國(guó)也不例外，出臺(tái)了一系列政策以推動(dòng)高新技術(shù)企業(yè)及其對(duì)外貿(mào)易的發(fā)展。如今，高新技術(shù)企業(yè)對(duì)外貿(mào)易已經(jīng)成為我國(guó)出口貿(mào)易新的強(qiáng)勁的增長(zhǎng)點(diǎn)，但是較之其他發(fā)達(dá)國(guó)家的高新技術(shù)企業(yè)而言，我國(guó)高新技術(shù)企業(yè)外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力依然較弱，最主要原因在于其缺乏核心技術(shù)專利。高新技術(shù)企業(yè)如何實(shí)施專利戰(zhàn)略，以培養(yǎng)自己的核心專利，從而增強(qiáng)外貿(mào)

2、競(jìng)爭(zhēng)力，便是本文的研究目的和研究意義所在。 本文開(kāi)篇簡(jiǎn)要介紹其研究背景及研究意義，繼而分析國(guó)內(nèi)外理論研究現(xiàn)狀并對(duì)本文所涉及的相關(guān)概念進(jìn)行界定。在此基礎(chǔ)上，本文進(jìn)入以下創(chuàng)新內(nèi)容研究： 首先，從高新技術(shù)企業(yè)專利戰(zhàn)略對(duì)外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力提升的作用分析入手，綜合運(yùn)用了理論分析法、實(shí)證分析法以及比較分析法。理論分析方面，以資源和能力為聯(lián)結(jié)點(diǎn)，分析專利戰(zhàn)略如何為高新技術(shù)企業(yè)獲得優(yōu)勢(shì)資源，激發(fā)和保護(hù)技術(shù)創(chuàng)新能力，從而使其獲得競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，提升外貿(mào)

3、競(jìng)爭(zhēng)力。實(shí)證分析方面，一方面，以專利數(shù)作為專利戰(zhàn)略的衡量指標(biāo)，分析其與高新技術(shù)企業(yè)出口額以及出口產(chǎn)品TC指數(shù)之間的相關(guān)關(guān)系并建立回歸方程，得出專利數(shù)和出口額、TC指數(shù)存在著較強(qiáng)的正相關(guān)關(guān)系。另一方面，比較分析了美、日、中三國(guó)專利和國(guó)際市場(chǎng)占有率。實(shí)證分析顯示高新技術(shù)企業(yè)專利戰(zhàn)略對(duì)外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力的提升具有積極作用。這為下文分析如何基于外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力和專利戰(zhàn)略現(xiàn)狀來(lái)實(shí)施專利戰(zhàn)略以達(dá)到提升外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力的目的提供了前提。 接著，運(yùn)用大量的數(shù)據(jù)和回

4、收的調(diào)查問(wèn)卷統(tǒng)計(jì)結(jié)果分析目前我國(guó)高新技術(shù)企業(yè)外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力和專利戰(zhàn)略實(shí)施的現(xiàn)狀。經(jīng)分析發(fā)現(xiàn)外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力雖有所增強(qiáng)但仍顯不足，存在諸如：出口產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不平衡、出口市場(chǎng)高度集中化和單一化、出口主要靠加工貿(mào)易及三資企業(yè)拉動(dòng)等問(wèn)題。而專利戰(zhàn)略的實(shí)施同樣也存在著很多問(wèn)題，如：專利戰(zhàn)略意識(shí)不強(qiáng)、研發(fā)投入不足、知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理體系和制度缺乏、政府扶持不足等。通過(guò)對(duì)這些問(wèn)題的分析和總結(jié)，為下文進(jìn)一步分析如何針對(duì)這些問(wèn)題，實(shí)施以提升外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力為目的的專利戰(zhàn)略提供了依

5、據(jù)。 最后，借鑒華為公司專利戰(zhàn)略實(shí)施的成功經(jīng)驗(yàn)，并針對(duì)前文總結(jié)的現(xiàn)狀和問(wèn)題，依據(jù)戰(zhàn)略管理過(guò)程的思路，構(gòu)建了基于外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力提升的高新技術(shù)企業(yè)專利戰(zhàn)略實(shí)施框架圖，建議高新技術(shù)企業(yè)圍繞提升外貿(mào)競(jìng)爭(zhēng)力的戰(zhàn)略目標(biāo)，做好戰(zhàn)略分析、戰(zhàn)略實(shí)施及戰(zhàn)略實(shí)施保障以成功實(shí)施適合自身實(shí)力的專利戰(zhàn)略。具體而言，先對(duì)國(guó)內(nèi)外的外部環(huán)境因素及自身內(nèi)部環(huán)境因素進(jìn)行戰(zhàn)略分析，然后在此基礎(chǔ)上實(shí)施專利開(kāi)發(fā)戰(zhàn)略、專利運(yùn)營(yíng)戰(zhàn)略及專利保護(hù)戰(zhàn)略，同時(shí)強(qiáng)調(diào)在戰(zhàn)略分析和戰(zhàn)略實(shí)施的過(guò)