莠去津分子印跡聚合物及印跡復(fù)合膜的制備及性能研究.pdf

1、分子印跡技術(shù)是指制備對(duì)目標(biāo)分子具有專一選擇性識(shí)別能力的高分子材料的一種技術(shù)。這種高分子材料具有制備過(guò)程簡(jiǎn)單、物理和化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、應(yīng)用范圍廣泛。分子印跡技術(shù)在環(huán)境領(lǐng)域農(nóng)藥監(jiān)測(cè)和分離方向已有報(bào)道。本文以莠去津?yàn)槟０宸肿?，?甲基丙烯酸為功能單體，在氯仿溶劑中合成了莠去津分子印跡聚合物。紫外光譜研究表明莠去津與功能單體α-甲基丙烯酸之間確實(shí)存在作用力。通過(guò)紅外光譜研究，分析了聚合物結(jié)構(gòu)，可以確定模板分子與功能單體之間的作用力為氫鍵。優(yōu)化了功能

2、單體用量，并利用透射電鏡表征了溶劑用量和交聯(lián)劑用量對(duì)印跡聚合物微觀形貌的影響，綜合利用平衡結(jié)合實(shí)驗(yàn)考察了不同溶劑用量和交聯(lián)劑用量下聚合物的結(jié)合性能。結(jié)果表明聚合物最大結(jié)合量達(dá)到42.6μmol/g。最終確定了制備莠去津分子印跡聚合物的模板分子、功能單體、交聯(lián)劑以及溶劑的最佳配比為1:4:20:25。同時(shí)本文討論了分子印跡聚合物對(duì)模板分子的結(jié)合能力以及對(duì)其結(jié)構(gòu)類似物西瑪津及萘普生的吸附效果，結(jié)果顯示印跡聚合物對(duì)莠去津的吸附量明顯高于西瑪津

3、，萘普生的吸附，表現(xiàn)出良好的選擇識(shí)別性。
　　 本文的另一部分內(nèi)容是在前期工作的基礎(chǔ)上，利用表面修飾聚合的方法制備了以三嗪類除草劑莠去津?yàn)槟０?，MAA為功能單體，聚丙烯為支撐膜的莠去津分子印跡復(fù)合膜。利用掃描電鏡觀察了聚丙烯膜及不同分子印跡復(fù)合膜的表面形貌；膜通量實(shí)驗(yàn)測(cè)試了不同分子印跡復(fù)合膜的純水通量；通過(guò)BET研究分析了印跡復(fù)合膜的比表面積和孔徑；平衡結(jié)合實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了分子印跡復(fù)合膜對(duì)莠去津具有識(shí)別性能，其最大結(jié)合量為22.05μ