ZnO與ZnSb的第一性原理研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、第一性原理計算是以密度泛函理論為基礎,將多電子體系轉化為單電子的研究,通過求解薛定諤方程,得到材料的電子結構,使材料的計算從介觀和原子層次深入到電子層次,這樣就可以從本質上探討材料的許多特性。因此,本論文就以第一性原理為主要研究方法,以ZnO、ZnSb為研究對象,以電子結構信息為基本點,從電子層面解釋了研究對象的性質以及性能發(fā)生改變的理論機制。
   ZnO是一種用途比較廣泛的半導體材料,它的很多性能與其表面性質密切相關。但目前

2、,對其各表面還沒有比較全面的研究,因此本論文第三章就對其四個低指數表面((001)、(100)、(101)和(110)面)的電子結構進行比較系統的研究,從而得出它們不同的特性;摻雜是改善材料特性的主要方式,但對其表面摻雜后吸附的第一性原理研究不太多,目前還沒有對其摻Cr后的O吸附的電子性能進行計算,本論文第四章就對此進行了研究;ZnSb作為一種比較有前途的半導體金屬合金型熱電材料,實驗研究在摻雜Te后其半導體類型從P型轉變?yōu)镹型,但其轉

3、變機制不是很清晰,本論文第五章從電子層面進行了研究。
   以上研究所得的主要結論如下:
   ①對ZnO的四個表面((001)、(100)、(101)和(110)面)的電子結構的計算,包括能帶結構、態(tài)密度、電荷密度,得出(110)面能量最低、松弛幅度也最小、因此在四個面中相對比較穩(wěn)定,(001)面僅次之;四個面均為直接帶隙,其中(101)面的禁帶寬度最小,(110)面最大,禁帶寬度越大,對應的電阻值越大,導電性越弱;Z

4、nO四個表面的能態(tài)組成基本一致,即價帶主要由Zn3d和O2p態(tài)形成,導帶主要由O2p態(tài)貢獻,不同之處在于各面形成的態(tài)密度及分波態(tài)密度的峰值大小、位置及個數;對于電荷密度,(001)與(100)兩面的強度比其他兩面要強,這說明了其成鍵能力以及電荷轉移的潛能比較強。由于計算表面各優(yōu)值不匹配,可通過摻雜來改善表面的綜合性能。
   ②未摻雜Cr時,對ZnO(001)表面的O吸附性能進行計算,得出吸附前后其態(tài)密度沒有發(fā)生明顯變化,電荷密

5、度比較弱,吸附O與表面原子的電子轉移也不多,說明純的(001)表面對O吸附性能一般。
   ③摻雜Cr后,(001)表面仍屬于半導體類型,但帶隙變窄,這有利于價帶電子躍遷到導帶,使其導電性增強,電阻降低;態(tài)密度的位置也發(fā)生了明顯變化,有左移趨勢;電荷密度明顯增強。摻雜后吸附O前后的電子結構也發(fā)生了明顯變化,費米能級的位置由最初靠近導帶變?yōu)楦咏鼉r帶,這表明有更多的價帶電子躍遷到導帶,并且吸附前后的電荷密度圖以及電子轉移圖也證明了

6、這一點,使得表面與吸附O之間發(fā)生更多的電子轉移,兩者相互作用增強,從而提高了ZnO表面對O的吸附性能。因此,摻雜Cr是提高ZnO吸附O氣敏性能得以提高的一個途徑。
   ④建立了ZnSb摻雜不同濃度的Te的穩(wěn)定的原子模型。純的ZnSb為P型半導體,當摻雜Te濃度為1.56at%和2.34at%時,ZnSb則轉變?yōu)镹型。研究表明這是因為摻雜元素Te的s和p軌道電子,在導帶底部形成了微弱的但可見的施主能級,從而使費米能級位于接近導帶

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