遺傳模擬退火算法在光學系統(tǒng)計算機輔助裝調(diào)中的應用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、航天工程技術及超精微刻技術的飛速發(fā)展,使光學系統(tǒng)趨向復雜化。在光學設計及元件加工精度滿足要求的前提下,光學系統(tǒng)實現(xiàn)高像質(zhì)成像的關鍵在于保證整個系統(tǒng)裝配和調(diào)整的精確性。但是由于多元件離軸結(jié)構(gòu)的復雜性,使得利用傳統(tǒng)裝調(diào)手段很難達到使用要求。計算機輔助裝調(diào)技術正是針對傳統(tǒng)裝調(diào)方法不可視,不定量,隨機成分多,裝調(diào)周期長等缺點而提出的一種新的裝調(diào)方法,它能定量地給出失調(diào)量,從而指導裝調(diào)過程,使成像質(zhì)量最佳,并穩(wěn)定可靠。 計算機輔助裝調(diào)技術

2、的核心部分是如何計算求解出失調(diào)量。20世紀80年代初至今,國內(nèi)外相繼開展了光學系統(tǒng)計算機輔助裝調(diào)技術的研究,采用最小二乘法求解失調(diào)量。最小二乘法可在理想系統(tǒng)附近較小范圍的線性區(qū)域內(nèi)求解,適于系統(tǒng)精裝調(diào)階段。 本論文提出了一種新的基于遺傳模擬退火算法求解失調(diào)量的方法。遺傳模擬退火算法是結(jié)合遺傳算法與模擬退火算法的各自優(yōu)勢混合在一起的一種算法,具有很強的全局搜索和局部收斂的特性,可同時應用于系統(tǒng)精、初裝調(diào)兩個階段。 本論文完

3、成了在VC平臺上的遺傳模擬退火算法求解光學系統(tǒng)失調(diào)量的程序編譯,并調(diào)試成功。結(jié)合最小二乘法程序,集成為計算機輔助裝調(diào)軟件。利用Zemax光學設計軟件,應用遺傳模擬退火算法對一離軸三反鏡光學系統(tǒng)進行了失調(diào)量求解的數(shù)值模擬,結(jié)果表明了該算法的可行性和準確性。應用以遺傳模擬退火算法和最小二乘法為核心的計算機輔助裝調(diào)軟件對某單位給定的Cassegrin系統(tǒng)和離軸三反系統(tǒng)進行了現(xiàn)場測試,效果良好,測試通過。此外還對影響遺傳模擬退火算法求解失調(diào)量的

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