Temporal Evolution Of Surface Structure And MoRPHOLOGY In Thin-Film Growth.pdf

1、薄膜生長是一個(gè)非常復(fù)雜的隨機(jī)過程,它實(shí)質(zhì)上是一個(gè)動(dòng)力學(xué)的表面粗糙過程,通常發(fā)生在遠(yuǎn)離平衡態(tài)。薄膜生長過程中的結(jié)構(gòu)和形態(tài)的研究在很多領(lǐng)域都有實(shí)際的應(yīng)用,特別是在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。研究這些性質(zhì)有助于我們理解制造薄膜中涉及的有關(guān)機(jī)制,這樣就可以更好的控制薄膜的生長以達(dá)到我們期望的性質(zhì),包括電學(xué),磁學(xué)和光學(xué)性質(zhì)。因此這個(gè)課題近幾年得到越來越多的關(guān)注。然而,由于這些現(xiàn)象的復(fù)雜性和多樣性,直到今天,有關(guān)生長系統(tǒng)中的動(dòng)力學(xué)粗糙過程的完整圖像還遠(yuǎn)遠(yuǎn)沒有完

2、全被揭示。為了理解和預(yù)言這樣的過程,人們通常構(gòu)造各種模型。構(gòu)造更加符合實(shí)際并接近試驗(yàn)結(jié)果的模型的努力一直在進(jìn)行。
　　 許多理論模型被用來描述表面結(jié)構(gòu)和形態(tài)的演變。近來re-emission模型引起很多的關(guān)注。它提供了一組更加接近于試驗(yàn)結(jié)果的動(dòng)力學(xué)標(biāo)度指數(shù)。本文主要探討了一些re-emission模型有意義的性質(zhì)。
　　 第一章包括了我們理解表面粗糙和動(dòng)力學(xué)標(biāo)度的必要背景知識(shí)。第二章介紹了應(yīng)用于表面粗糙的re-emiss

3、ion模型。第三章詳細(xì)介紹了我們?nèi)绾芜M(jìn)行MonteCarlo模擬。
　　 在第四章,我們研究了re-emission模型中的吸附系數(shù)。我們提出了有效吸附系數(shù)的概念。當(dāng)粗糙度增加,再發(fā)射粒子可以被表面的其他部分捕獲,于是有效吸附系數(shù)將比表面平坦時(shí)的吸附系數(shù)s0大,于是我們研究了有效吸附系數(shù)s是如何隨時(shí)間和不同的粗糙度指數(shù)變化的。
　　 入射粒子的分布是re-emission模型的另一個(gè)重要部分,在第五章中,我們將研究由入射