2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩138頁(yè)未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、日益增多的電子產(chǎn)品及電氣設(shè)備使得電磁輻射污染越發(fā)嚴(yán)峻,急需發(fā)展高效屏蔽材料。鎂合金是一種潛在在電磁屏蔽材料,其與傳統(tǒng)金屬屏蔽材料相比,具有密度低,質(zhì)量輕,比強(qiáng)度高的優(yōu)勢(shì);與泡沫屏蔽材料、涂層、復(fù)合屏蔽材料相比,具有優(yōu)良的力學(xué)性能、電磁屏蔽性能且對(duì)環(huán)境友好,還可用做工程結(jié)構(gòu)材料。然而,國(guó)內(nèi)外關(guān)于鎂合金電磁屏蔽性能的研究十分有限,影響因素及相關(guān)屏蔽機(jī)理還不清楚。
  本文通過(guò)矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀與法蘭同軸夾具組成的系統(tǒng),按照ASTM-D49

2、35-10標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試了鎂合金在30~1500MHz頻率范圍內(nèi)的屏蔽性能;研究了合金元素對(duì)二元及三元鎂合金電磁屏蔽性能的影響規(guī)律;探討了晶粒度、織構(gòu)及第二相與鎂合金電磁屏蔽性能之間的關(guān)系;模擬計(jì)算了鎂合金的電磁屏蔽性能并與實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了對(duì)比分析;提出了高性能鎂合金屏蔽材料的設(shè)計(jì)思路。論文的研究成果有利于推動(dòng)鎂合金材料在電磁兼容領(lǐng)域的應(yīng)用,具有重要的理論參考價(jià)值和工程應(yīng)用意義。研究結(jié)果如下:
 ?、僭阼T態(tài)和固溶態(tài)下,所選5組二元合金的電

3、導(dǎo)率隨成分的增加而逐漸降低,電磁屏蔽性能隨測(cè)試頻率的增加而波動(dòng)遞減。固溶原子在鎂基體里的“比電阻率”(即每添加一原子百分比溶質(zhì)原子導(dǎo)致的電阻率的增加值)及其對(duì)鎂合金電磁屏蔽性能的影響大小滿(mǎn)足以下相同的規(guī)律:Zn  ②在ZA系合金中,合金的電導(dǎo)率隨著Zn/Al比的增加而增加;在ZW系合中

4、,合金的電導(dǎo)率隨著Y/Zn比的增加而降低。合金元素對(duì)三元鎂合金電導(dǎo)率的影響滿(mǎn)足Zn<Al<Y的規(guī)律。當(dāng)入射電磁波處于低頻段時(shí),ZA及ZW系合金的電磁屏蔽效能與其對(duì)應(yīng)電導(dǎo)率變化趨勢(shì)一致,且隨著頻率的增加,SE值快速降低。這歸因于Zn、Al、Y對(duì)鎂基體電導(dǎo)率影響程度不同,導(dǎo)致在低頻時(shí)對(duì)電磁波的反射損耗SER不同。當(dāng)入射電磁波在高頻段時(shí),ZA及ZW合金的電磁屏蔽效能與電導(dǎo)率變化趨勢(shì)不同,而是隨著合金元素含量的增加先升高后降低,且隨著頻率的增加

5、,SE值緩慢降低并趨于穩(wěn)定。這歸因于合金元素增加使得第二相含量上升,進(jìn)而增加了合金內(nèi)部高阻抗不連續(xù)界面的面積,導(dǎo)致在高頻階段時(shí)多重反射損耗SEB及吸收損耗SEA的上升,一定程度上彌補(bǔ)了SER降低帶來(lái)的影響。
 ?、坻V合金晶粒尺寸增大會(huì)減小合金內(nèi)部的晶界面積,導(dǎo)致合金內(nèi)部對(duì)入射電磁波的多重反射損耗SEB減小,進(jìn)而降低合金的屏蔽性能,但降低幅度較低,通??梢院雎?。鎂合金織構(gòu)從原始態(tài)的隨機(jī)織構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)榛婵棙?gòu)時(shí),合金的屏蔽效能得到顯著提升

6、;若基面織構(gòu)強(qiáng)度進(jìn)一步增加,屏蔽效能也隨之少量提高。這是由于基面織構(gòu)提高了合金表面與空氣的阻抗不匹配程度,從而提高了合金對(duì)入射電磁波的反射損耗SER,進(jìn)而提高了合金的屏蔽性能。
 ?、苕V合金中的第二相類(lèi)型的變化對(duì)鎂合金電磁屏蔽性能造成的影響不顯著。當(dāng)?shù)诙嗪吭黾訒r(shí),會(huì)導(dǎo)致鎂合金屏蔽性能的升高,特別是在高頻范圍內(nèi);但若第二相含量過(guò)多,將導(dǎo)致合金電導(dǎo)率降低,從而降低合金的電磁屏蔽性能。時(shí)效析出的均勻彌散分布的第二相相比鑄態(tài)中沿晶界析

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論