solar photo electr-Fenton法降解難生化染料中間體H-acid的研究.pdf

1、H-acid是一種重要的染料中間體。該廢水具有污染物濃度高、酸性強(qiáng)、色澤深、水質(zhì)水量多變、難降解等特點(diǎn)，是目前難處理的廢水之一。常規(guī)的處理方法很難適合直接處理這類廢水。因此，積極研究能有效降解H-acid廢水的處理方法已成為當(dāng)前面臨的重要課題。本論文以染料中間體H-acid模擬廢水為研究對(duì)象，分別采用太陽(yáng)光/Fenton法和solar photo electro-Fenton法進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究，得出的主要結(jié)論有：
　　 (1)太陽(yáng)

2、光/Fenton法能有效地降解低濃度H-acid廢水，最佳工藝條件為：pH為3、H2O2的體積濃度為2.5 ml·L-1、Fe2+質(zhì)量濃度為225 mg·L－1，在太陽(yáng)光照射下反應(yīng)60 min后，對(duì)200 mg·L-1 H-acid廢水的CODcr和色度去除率分別達(dá)到87.37％和84.10％，而普通Fenton法卻分別只有75.43％和72.01％。
　　 (2)以鈦基鍍IrO2/SnO2新型電極為陽(yáng)極，具有大比表面積的活性碳

3、纖維(ACF)為陰極的太陽(yáng)光/電Fenton法對(duì)低濃度H-acid模擬廢水進(jìn)行了研究。首先通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)確定了對(duì)H-acid廢水降解效果影響因素的大小，再通過(guò)單因素實(shí)驗(yàn)確定了最佳工藝條件：在pH為3、Fe2+的投加量值為1.0 mM和支持電解質(zhì)Na2SO4為0.10 mol·L－1、電解電壓為10 V及太陽(yáng)光照射反應(yīng)時(shí)間為90 min的條件下，對(duì)200 mg·L-1 H-acid模擬廢水的CODcr和色度去除率分別為97.22％、91.0

4、5％。
　　 (3)在太陽(yáng)光/電-Fenton實(shí)驗(yàn)中，還研究了鈦基鍍IrO2/SnO2新型電極與不銹鋼為陽(yáng)極的兩種不同電極對(duì)H-acid降解效果的比較，前者對(duì)H-acid廢水CODcr和色度去除率比后者分別高出14.17％、13.71％，這為陽(yáng)極材料的選取和新的廢水處理體系開(kāi)拓了新思路。
　　 (4)以鈦基鍍IrO2/SnO2為陽(yáng)極的太陽(yáng)光助電Fenton體系對(duì)高濃度H-acid模擬廢水進(jìn)行了研究。研究發(fā)現(xiàn)，CODcr去

5、除率隨著H-acid濃度的升高而下降，當(dāng)H-acid濃度在1500 mg·L-1以下時(shí)，CODcr去除率在30％左右，廢水可生化性CODB/CODcr從6.4％～7.3％升高到51.8％～58.4％，可生化性顯著提高，為后續(xù)生物處理創(chuàng)造了有利條件。
　　 (5)通過(guò)分析太陽(yáng)光/電Fenton降解染料中間體H-acid過(guò)程中的影響因素：H-acid濃度，F(xiàn)e2+投加量及電解電壓等對(duì)H-acid降解速率的影響，采用初始濃度擬合實(shí)驗(yàn)數(shù)