2013材料復習題

1、材料現(xiàn)代分析復習題一、填空題1、影響透射電鏡分辨率的因素主要有：衍射效應衍射效應和電鏡的像差電鏡的像差（球差、像散、色差）（球差、像散、色差）等。2、透射電子顯微鏡的照明系統(tǒng)由電子槍電子槍、聚光鏡、聚光鏡和相應的平移對中、傾斜調(diào)節(jié)裝置組成。它的作用是提供一束亮度高、照明孔經(jīng)角小、平行度好、束流穩(wěn)定的照明源。它應滿足明場和暗場成像需求。3、透射電子顯微鏡的成像系統(tǒng)主要是由物鏡物鏡、中間鏡、中間鏡和投影鏡投影鏡組成。4、當X射線管電壓超過臨

2、界電壓就可以產(chǎn)生特征譜特征譜X射線和連續(xù)譜連續(xù)譜X射線。5、X射線與物質(zhì)相互作用可以產(chǎn)生散射散射、入射入射、透射透射、吸收吸收6、經(jīng)過厚度為H的物質(zhì)后，X射線的強度為IH=I0exp(μH)。7、X射線的本質(zhì)既是高頻率不可見高頻率不可見《光》也是電磁波電磁波，具有波粒二象波粒二象性。8、短波長的X射線稱硬X射線射線，常用于衍射分析衍射分析；長波長的X射線稱軟X射線射線，常用于熒光分析熒光分析。9、德拜相機有兩種，直徑分別是57.3和Φ1

3、14.6mm。測量θ角時，底片上每毫米對應2和1。10、衍射儀的核心是測角儀圓，它由試樣臺、輻射源和探測器試樣臺、輻射源和探測器共同組成。11、可以用作X射線探測器的有正比計數(shù)器、閃爍計數(shù)器和正比計數(shù)器、閃爍計數(shù)器和SiLi半導體探測器半導體探測器等12、影響衍射儀實驗結(jié)果的參數(shù)有狹縫寬度、掃描速度和時間常數(shù)狹縫寬度、掃描速度和時間常數(shù)等。13、X射線物相分析包括定性分析定性分析和定量分析定量分析，而定性分析定性分析更常用更廣泛。14、

4、第一類應力導致X射線衍射線峰線偏移（峰線偏移（衍射線條位移）；第二類應力導致衍射線峰線峰線寬化寬化(線條變寬)；第三類應力導致衍射線衍射強度降低衍射強度降低。15、X射線物相定量分析方法有內(nèi)標法內(nèi)標法、外標法外標法、無標樣法無標樣法等。16、TEM中的透鏡有兩種，分別是磁透鏡磁透鏡和電透鏡電透鏡。17、TEM中的三個可動光欄分別是第二聚光鏡光欄第二聚光鏡光欄位于第二聚光鏡焦點上第二聚光鏡焦點上，物鏡光欄物鏡光欄位于物鏡的背物鏡的背焦面上

5、焦面上，選區(qū)光欄選區(qū)光欄位于。18、TEM成像系統(tǒng)由物鏡、中間鏡和投影鏡物鏡、中間鏡和投影鏡與樣品室構(gòu)成組成。19、TEM的主要組成部分是照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和觀察記錄觀察記錄系統(tǒng)；輔助部分由真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)、循環(huán)冷卻循環(huán)冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。20、電磁透鏡的像差包括球差、像散、色差球差、像散、色差。21、電子衍射和X射線衍射的不同之處在于電子散射強度大導致攝譜時間短電子散射強度大導致攝譜時間短不同、電子

6、多次衍電子多次衍射導致電子束強度不能被測量射導致電子束強度不能被測量不同，以及電子波長短導致的布拉格角小電子波長短導致的布拉格角小不同。22、電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生背散射電子、二次電子、吸收電子、俄歇電子、特征X射線、透射電子、可見光等物理信號。23、掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是顯示屏顯示屏的掃描寬度與樣品樣品上的掃描寬度的比值。在襯度像上顆粒、凸起的棱角是亮襯度，而裂紋、凹坑則是暗襯度。24.倒易矢量的方向是對應正空間晶面的法

7、線法線；倒易矢量的長度等于對應晶面間距的倒數(shù)晶面間距的倒數(shù)。25.影響衍射強度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還有:角因素角因素多重性因素多重性因素溫度因素、試樣對溫度因素、試樣對X射線的吸收。線的吸收。26、現(xiàn)代熱分析儀大致由五個部分組成：程序控溫系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、顯示系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、操、現(xiàn)代熱分析儀大致由五個部分組成：程序控溫系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、顯示系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、操作和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。作和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。程序控溫系統(tǒng)由爐子和控溫兩部分組

8、成。其中測量系統(tǒng)。其中測量系統(tǒng)是熱分析的核心部分。27、影響DTA曲線的因素包括三個方面：操作方面的因素，樣品方面的因素，儀器方面的因素。操作方面的因素，樣品方面的因素，儀器方面的因素。28、材料結(jié)構(gòu)與性能的表征包括（材料性能）、（微觀結(jié)構(gòu)）和（成分）的測試與表征。A.物鏡的物平面；B.物鏡的像平面C.物鏡的背焦面；D.物鏡的前焦面。18.單晶體電子衍射花樣是（A）。A.規(guī)則的平行四邊形斑點；B.同心圓環(huán)；C.暈環(huán)；D.不規(guī)則斑點。19

9、.僅僅反映固體樣品表面形貌信息的物理信號是（B）。A.背散射電子；B.二次電子；C.吸收電子；D.透射電子。20.在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（C）。A.和電子束垂直的表面；B.和電子束成30的表面；C.和電子束成45的表面；D.和電子束成60的表面。21.掃描電子顯微鏡配備的成分分析附件中最常見的儀器是（B）。A.波譜儀；B.能譜儀；C.俄歇電子譜儀；D.特征電子能量損失譜。三、判斷題1.隨X射線管的電壓升高，λ

10、0和λk都隨之減小。（）2.激發(fā)限與吸收限是一回事，只是從不同角度看問題。（）3.經(jīng)濾波后的X射線是相對的單色光。（√）4.產(chǎn)生特征X射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（√）5.選擇濾波片只要根據(jù)吸收曲線選擇材料，而不需要考慮厚度。（）6.倒易矢量能唯一地代表對應的正空間晶面。（√）7.X射線衍射與光的反射一樣，只要滿足入射角等于反射角就行。（）8.干涉晶面與實際晶面的區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬的，指數(shù)間存在公約數(shù)n。

11、（√）9.布拉格方程只涉及X射線衍射方向，不能反映衍射強度。（√）10.衍射儀法和德拜法一樣，對試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中，沒有應力。（）11.X射線衍射之所以可以進行物相定性分析，是因為沒有兩種物相的衍射花樣是完全相同的。（√）12.理論上X射線物相定性分析可以告訴我們被測材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴我們這些物相的含量有多少。（√）13.孔徑半角α是影響分辨率的重要因素，TEM中的α角越小越好。（）14.有效放大倍數(shù)與

12、儀器可以達到的放大倍數(shù)不同，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者僅僅是儀器的制造水平。（√）15.TEM中主要是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，所以不能象光學顯微鏡那樣通過凹凸鏡的組合設計來減小或消除像差，故TEM中的像差都是不可消除的。（√）16.TEM的景深和焦長隨分辨率Δr0的數(shù)值減小而減小；隨孔徑半角α的減小而增加；隨放大倍數(shù)的提高而減小。（）17.明場像是質(zhì)厚襯度，暗場像是衍襯襯度。（）18.掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射

13、電子顯微鏡的物鏡一樣。（）19.掃描電子顯微鏡具有大的景深，所以它可以用來進行斷口形貌的分析觀察。（√）20、襯度是指圖象上不同區(qū)域間明暗程度的差別。（√）四、名詞解釋1、系統(tǒng)消光：因?F?2=0而使衍射線消失的現(xiàn)象稱為系統(tǒng)消光。2、景深與焦長：將由衍射和像差產(chǎn)生散焦斑的尺寸r0所允許的物平面軸向偏差定義為透鏡的景深Df在一定分辨率下，具有透鏡景深范圍內(nèi)的試樣各部分的圖像都具有相同的清晰度。透鏡的焦深：將由衍射和像差產(chǎn)生散焦斑的尺寸r0