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1、薄膜材料與技術(shù)Thin Film Materials & Technologies,武濤 副教授2012年 秋季學(xué)期,主要教學(xué)內(nèi)容,第 1 章 真空技術(shù)基礎(chǔ)(2 學(xué)時(shí)) ? 真空的基本知識(shí)、獲得方法和測(cè)量技術(shù),第 2 章 薄膜制備的化學(xué)方法(6 學(xué)時(shí)) ? CVD 技術(shù)的原理、分類、設(shè)備工藝及應(yīng)用場(chǎng)合 其它基于
2、化學(xué)方法的薄膜制備技術(shù)的原理、特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域,第 3 章 薄膜制備的物理方法(6 學(xué)時(shí)) ? 蒸發(fā)、濺射、離子鍍等 PVD 技術(shù)的原理、工藝及適用領(lǐng)域,第 4 章 薄膜的形成與生長(zhǎng)(6 學(xué)時(shí)) ? 薄膜形核、生長(zhǎng)、形成理論;典型生長(zhǎng)機(jī)制及對(duì)應(yīng)結(jié)構(gòu)特征,第5章 薄膜表征(4 學(xué)時(shí)) ? 薄膜材料現(xiàn)代表征方法的分類、原理和適用范圍,,本課程討論的
3、對(duì)象:,什么是薄膜(Thin film)?,,本課程的討論對(duì)象是什么 ?,① 相對(duì)尺度:某一維尺寸 << 其余二維尺寸;,② 絕對(duì)尺度:在此維度上材料厚度 < 1~5 ?m,,厚度 > 5 ?m 的沉積層叫什么 ?,? 一般稱為涂層 (Coatings),? 具有結(jié)構(gòu)/功能特性的固態(tài)薄膜(thin solid films)!,本課程的研究?jī)?nèi)容,薄膜材料與技術(shù),,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),真空與薄膜材料與技術(shù)有何關(guān)系?
4、? 幾乎所有的現(xiàn)代薄膜材料制備都需要在真空或較低的氣壓條件下進(jìn)行 ? 都涉及真空下氣相的產(chǎn)生、輸運(yùn)和反應(yīng)過(guò)程? 了解真空的基本概念和知識(shí),掌握真空的獲得和測(cè)量技術(shù)基礎(chǔ)知識(shí) ? 是了解薄膜材料制備技術(shù)的基礎(chǔ)!1.1 真空的基本知識(shí),,,,中學(xué)物理內(nèi)容:1643年 托里切利 (Torricelli) 著名的大氣壓實(shí)驗(yàn) ? 為人類首次揭示了 真
5、空 這個(gè)物理狀態(tài)的存在!? 管內(nèi)水銀柱上方空間內(nèi),因已排除空氣的存在而形成真空 (托里切利真空) 圖中A、B、C三點(diǎn)壓力相等,A、C點(diǎn):大氣壓;B點(diǎn):水銀柱產(chǎn)生的壓力? 換句話說(shuō):可用水銀柱產(chǎn)生的壓力 作為 大氣壓力 的量度! ? 把高度為760 mm的水銀柱所產(chǎn)生的壓力定義為1個(gè)大氣壓 (1 atm) ? 1 atm = 760 mmHg !結(jié)果:得到了“真空”的定義和大氣壓的定義與量度依據(jù)!,1 真
6、空技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)概念:利用外力將一定密閉空間內(nèi)的氣體分子移走, 使該空間內(nèi)的氣壓小于 1 個(gè)大氣壓, 則該空間內(nèi)的氣體的物理狀態(tài)就被稱為真空。注意:真空,實(shí)際上指的是 ? 一種低壓的、稀薄的氣體狀態(tài), ? 而不是指“沒(méi)有任何物質(zhì)存在”!因此,真空可分為現(xiàn)代真空技
7、術(shù)的極限:每 cm3空間內(nèi)僅有數(shù)百個(gè)氣體分子 ? 對(duì)應(yīng)氣壓 ? 10-11 Pa思考題:常溫常壓下,每cm3空間內(nèi)有多少個(gè)氣體分子?提示:可由Avogadro常數(shù)推算 (6.02×1023個(gè)/22.4×103cm3 ? 2.7×1019 個(gè)/cm3),,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)1.1.1 真空度的單位? 真空的實(shí)質(zhì):一種低壓氣體物理狀態(tài) ? 真空度采用氣體壓強(qiáng)表征
8、? 真空度的單位 = 氣體壓強(qiáng)的單位? 注意:真空度和氣壓的意義相反 ? 真空度? 意味著 氣壓?? 主要單位制? 換算基礎(chǔ):1 N=105 dyne=0.225 lbf 1 atm=760 mmHg(torr)=1.013×105 Pa=1.013 bar,,,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)1.1.1 真空度的單位? 不同真空度單位制間的換
9、算關(guān)系:說(shuō)明:1、mmHg是人類使用最早、最廣泛的壓強(qiáng)單位; 1958年為紀(jì)念托里切利,用托(torr)代替了mmHg:1 torr=1 mmHg 2、早期的真空度計(jì)量常以 torr 或 mbar 為單位; 目前隨著標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程的推進(jìn),SI(MKS)制單位應(yīng)用日漸廣泛 ? 真空度用 Pa 作單位,,,,1 真空
10、技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)1.1.2 真空區(qū)域的劃分真空區(qū)域:指不同的真空度范圍; ? 劃分目的:為了研究真空和實(shí)際應(yīng)用的便利; ? 劃分依據(jù):按照各個(gè)壓強(qiáng)范圍內(nèi)氣體運(yùn)動(dòng)特征的不同進(jìn)行劃分; ? 劃分準(zhǔn)則:理論上,可依據(jù)Knudsen數(shù)的不同進(jìn)行劃分。,,,,相關(guān)物理:1)K
11、nudsen數(shù) 定義: 物理意義:是描述稀薄氣體流動(dòng)狀態(tài)的準(zhǔn)數(shù)! ? 分子平均自由程大于流場(chǎng)特征尺寸時(shí)的氣流稱為Knudsen流,其 Kn 一般 > 10!2)真空系統(tǒng)中氣體運(yùn)動(dòng)特征的理論劃分: 粘滯流(層流、Poiseuille流) 粘滯-分子流 分子流(自由分子流、Knudsen流)
12、 Kn > 1,,— 氣體分子的平均自由程 — 流場(chǎng)特征尺寸(如:管徑),,,,,,,,,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)1.1.2 真空區(qū)域的劃分,,,,3)理想氣體狀態(tài)方程: ,式中:n — 分子密度 (個(gè)/m3); k — 玻爾茲曼常數(shù),1.38×10-23 J/K; P — 氣體壓強(qiáng) (Pa);
13、 T — 氣體溫度 (K); V — 氣體體積 (m3); m — 氣體質(zhì)量 (kg); M — 氣體分子量 (kg/mol); R — 普適氣體常數(shù),R = NA·k = 8.314 J/mol·K;
14、 NA — Avogadro常數(shù),6.02×1023 個(gè)/mol;4)氣體分子的自由程(?):每個(gè)氣體分子在與其它氣體分子連續(xù)2次碰撞之間運(yùn)動(dòng)經(jīng)歷的路程。 平均自由程( ):氣體分子自由程的統(tǒng)計(jì)平均值。
15、 式中:? — 分子直徑(m);,,,,,? Avogadro定律: 一定溫度、壓力下,各種氣體單位體積內(nèi)含有的分子數(shù)相同。,,,表明:1) 與P成反比,而與 T 成正比;2)在氣體種類和溫度一定的情況下:,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),1.1 真空的基本知識(shí)1.1.2 真空區(qū)域的劃分,,,,5)真空區(qū)域的工程劃分:空氣在室溫下滿足
16、 記憶方法:“52-168(159)”,,,,,,,,,,,,,,,,,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,,1.1 真空的基本知識(shí)1.1.3 氣體的吸附及脫附? 真空下,氣體在固體表面的吸附和脫附現(xiàn)象總是存在的!一、基本概念 氣體吸附:固體表面捕獲氣體分子的現(xiàn)象 氣體脫附:逆過(guò)程 ? 氣體從固體表面釋出二、為什么需要關(guān)注(意義?)1)氣體在固體表面的吸附/脫附常常影響真空的實(shí)現(xiàn)和保持
17、;2)吸附原理還被用來(lái)制作各種吸附泵來(lái)獲得高真空。三、吸附的主要機(jī)制: 物理吸附:分子間作用力引起、無(wú)選擇性、低溫有效、易脫附 化學(xué)吸附:僅當(dāng)氣固接觸生成化合物時(shí)發(fā)生、高溫有效、不易脫附四、可能的影響因素:P氣、T固、?氣、表面光潔度、清潔度等,如:T固? ? 易脫附!,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,,1.1 真空的基本知識(shí)小結(jié)(課后作業(yè)):1、真空如何定義(概念)?如何表征?有哪些單位制?如何
18、換算?2、為什么要?jiǎng)澐终婵諈^(qū)域?其依據(jù)是什么?關(guān)鍵參數(shù)如何定義?3、工程上如何劃分真空區(qū)域?各個(gè)真空區(qū)域的氣體分子的物理運(yùn)動(dòng)特征如何?4、什么是吸附和脫附?為什么要關(guān)注?其主要機(jī)制和影響因素有哪些?1.2 真空的獲得真空的獲得:就是所謂的“抽真空”!? 利用各種真空泵把容器內(nèi)的空氣抽出,使其內(nèi)部壓強(qiáng)保持在 <1 atm的特定壓強(qiáng)范圍!獲得真空的主要工具 ? 各種真空泵(Pump)!真空泵的分類,1 真空技術(shù)基
19、礎(chǔ),,,,,,,,,,1.2 真空的獲得真空泵的分類及常用工作壓強(qiáng)范圍說(shuō)明:從大氣壓力開(kāi)始抽氣,沒(méi)有一種真空泵可以涵蓋從1 atm到10-8 Pa的工作范圍 ? 真空泵往往需要多種泵組合構(gòu)成復(fù)合抽氣系統(tǒng) ? 實(shí)現(xiàn)以更高的抽氣效率達(dá)到所需的高真空!,,,,,,,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,1.2 真空的獲得1.2.1 旋片式機(jī)械泵(Rotary P
20、ump),(a)外觀,(b)內(nèi)部結(jié)構(gòu),(c)工作原理,1、擴(kuò)張(吸氣),2、容積最大,3、壓縮,4、排氣,機(jī) 械 泵:利用機(jī)械運(yùn)動(dòng)部件轉(zhuǎn)動(dòng)或滑動(dòng)形成的輸運(yùn)作用獲得真空的泵。分 類:旋片式(最常見(jiàn))、定片式、滑閥式運(yùn)轉(zhuǎn)模式:吸氣 ? 壓縮 ? 排氣 (不斷循環(huán))基本特點(diǎn):需加真空油(密封用);可從大氣壓開(kāi)始工作; 真空度要求低 ? 可單獨(dú)使用;真空度要求高 ? 作為 前級(jí)泵
21、使用工作區(qū)間:?jiǎn)渭?jí):105~1 Pa;雙級(jí):105~10-2 Pa優(yōu)、缺點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工作可靠;有油污染的問(wèn)題。,雙級(jí)機(jī)械泵示意圖,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,1.2 真空的獲得1.2.2 油擴(kuò)散泵(Diffusion Pump),(a)外觀,(b)內(nèi)部結(jié)構(gòu),(c)工作原理真空油歷經(jīng)循環(huán):蒸發(fā)? 噴射? 碰撞? 冷凝? 回流,工作原理:1)將真空油加熱到高溫蒸發(fā)狀態(tài)(約200℃);2)讓油蒸汽分多級(jí)向下定向高速噴
22、出;3)大量油滴通過(guò)撞擊將動(dòng)能傳遞給氣體分子;4)氣體分子向排氣口方向運(yùn)動(dòng),并在動(dòng)壓作用下排出泵體;5)油氣霧滴飛向低溫介質(zhì)冷卻的泵體外壁,被冷卻凝結(jié)成液態(tài)后返回泵底部的蒸發(fā)器。,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,1.2 真空的獲得1.2.2 油擴(kuò)散泵(Diffusion Pump),(d)典型高真空系統(tǒng)組合前級(jí):羅茨泵 + 機(jī)械泵 后級(jí):油擴(kuò)散泵,高真空閥和冷阱,,,阻止油氣回流的Baffle,工作區(qū)間:1~10-
23、6 Pa(因此需要前級(jí)機(jī)械泵提供1 Pa的出口壓力)優(yōu) 點(diǎn):1)造價(jià)較低的高真空泵方案;2)沒(méi)有機(jī)械運(yùn)動(dòng)部件。缺 點(diǎn):油蒸汽回流有可能污染真空系統(tǒng)(不宜在分析儀器和超高真空?qǐng)龊鲜褂茫?1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,1.2 真空的獲得1.2.3 渦輪分子泵(Turbomolecular Pump),(a)外觀,(b)內(nèi)部結(jié)構(gòu),(c)工作原理,工作原理:1)泵內(nèi)交錯(cuò)布置轉(zhuǎn)向不同的多級(jí)轉(zhuǎn)子和定子;
24、2)轉(zhuǎn)子葉片以20k~60k r/min的高速旋轉(zhuǎn);3)葉片通過(guò)碰撞將動(dòng)能不斷傳遞給氣體分子;4)氣體分子被賦予動(dòng)能后被逐級(jí)壓縮排出。,,工作區(qū)間:1~10-8 Pa 也需前級(jí)泵提供1 Pa的出口壓力,但可提供更高真空度優(yōu) 點(diǎn):無(wú)油、抽速較高。缺 點(diǎn):1)抽取低原子序數(shù)氣體能力較差; 2)造價(jià)高;3)不易維護(hù)。,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.2 真空的
25、獲得1.2.4 低溫吸附泵(Cyropump),(a)外觀,(b)內(nèi)部結(jié)構(gòu),多級(jí)深冷頭示意圖,工作原理:利用20K以下的超低溫表面來(lái)凝聚氣體分子以實(shí)現(xiàn)抽氣。 1)初級(jí)冷頭(外側(cè)溫度 = 50~80 K):吸附 水氣、CO2 等; 2)多級(jí)深冷頭(T < 20 K):外側(cè)光滑金屬表面 ? 吸附 N2、O2、Ar;
26、 內(nèi)側(cè)活性炭表面 ? 吸附 H2、He、Ne工作區(qū)間:10-4~10-11 Pa優(yōu) 點(diǎn):可實(shí)現(xiàn)目前最高的極限真空度:10-11 Pa。缺 點(diǎn):1)屬于捕獲泵的一種,使用要求高,需要外加冷源(液氮、液氦或制冷機(jī)); 2)需要“再生”處理。,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,,,,,1.2 真空的
27、獲得小結(jié)(課后作業(yè)):1、真空泵可分為哪兩大類?簡(jiǎn)述各類包括的常用真空泵類型及其工作壓強(qiáng)范圍。2、分析說(shuō)明實(shí)用的真空抽氣系統(tǒng)為什么往往需要多種真空組成復(fù)合抽氣系統(tǒng)?3、各舉一例比較氣體輸運(yùn)泵和氣體捕獲泵工作原理的不同。1.3 真空的測(cè)量概念:采用特定的儀器裝置,對(duì)某一特定空間內(nèi)的真空度(即:氣壓)進(jìn)行測(cè)定。 ? 這些儀器常被稱為 真空計(jì)(Manometer)或 真空規(guī)(Vacuum Gauge)
28、,分類:,因此:P ? 時(shí),氣體稀薄化 ? 氣體導(dǎo)熱能力? ? Qg ? ? 相同燈絲電流下 Ql ? ? 熱電偶溫度 T ? ? 電壓表上測(cè)得的熱電勢(shì) V ?? 特定氣壓范圍內(nèi)(102~10-1 Pa 間),成立: !,工作原理:利用一個(gè)燈絲持續(xù)加熱,燈絲旁有一熱電偶,燈絲放熱總量(Qt)等于輻射熱損失(Qr)、熱電偶-燈絲間熱傳導(dǎo)(Ql)及氣體分子與
29、燈絲碰撞攜帶走的熱量(Qg)之和:,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.1 熱偶真空計(jì)(ThermoCouple Gauge),熱偶真空計(jì)的工作原理示意圖,,,,工作范圍:102~10-1 Pa 之間;應(yīng)用場(chǎng)合:大量用于真空度較低、精度要求不高的場(chǎng)合;特 點(diǎn):1)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便; 2)對(duì)不同氣體測(cè)量結(jié)果不同,需要校正; ? 3
30、)不能測(cè)量過(guò)高或過(guò)低的氣壓; 4)熱慣性較大,易發(fā)生零點(diǎn)漂移現(xiàn)象。,工作原理:1)由兩組燈絲組成,一組燈絲置于密封定壓空間內(nèi)作為參 考,另一組與待測(cè)壓腔體相通。2)兩組燈絲同時(shí)被視為兩個(gè)電阻組成Wheatstone電橋。3)兩組燈絲同時(shí)被通電加熱,若其所處環(huán)境壓力不同(空 氣稀薄程度不同)導(dǎo)致熱耗散速度也不同,因而燈絲電 阻會(huì)因溫度不同而產(chǎn)生差異,流過(guò)之電流隨之
31、改變。4)因參考端氣壓固定,因而溫度、電阻、流過(guò)電流不變, 借助其補(bǔ)償作用可比對(duì)求出待測(cè)腔體內(nèi)的氣體壓力。,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.2 皮拉尼真空計(jì)(Pirani Gauge)? 熱偶真空計(jì)的改進(jìn)形式!,皮拉尼真空計(jì)的工作原理,,,,工作范圍:102~10-1 Pa 之間(與熱偶真空計(jì)相當(dāng));應(yīng)用場(chǎng)合:大量用于真空度較低、精度要求不高的場(chǎng)合;特 點(diǎn):1)響應(yīng)速度比熱偶真空
32、計(jì)快得多; 2)一定程度上解決了零點(diǎn)漂移的問(wèn)題。,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.3 電離真空計(jì)(Ionization Gauge),(a)內(nèi)部結(jié)構(gòu),(b)工作原理示意圖,工作原理:利用氣體分子與振蕩電子的碰撞電離作用測(cè)得氣壓 ! 1)電子的振蕩與捕獲:①熱電子發(fā)射 ? ②加速飛向柵極 ? ③部分被捕獲 ? ④漏網(wǎng)飛離柵極 ?
33、 ⑤反向減速掉頭后再加速飛回柵極 ? ⑥再捕獲 ? 漏網(wǎng)逃離柵極 ? ⑦再次減速并掉頭加速 ? 重復(fù)②以后過(guò)程 (在劫難逃?。?)氣體分子碰撞電離:電子往復(fù)振蕩與氣體分子不斷碰撞使之發(fā)生電離,電離產(chǎn)生的二次電子繼續(xù) 加入振蕩-
34、捕獲過(guò)程,而氣體離子則飛向離子收集極形成回路電流,且滿足: Ie — 燈絲電流;S — 常數(shù)。3)獲得相對(duì)氣壓測(cè)值:燈絲電流 Ie 一定時(shí),就可由離子電流 I+ 的大小測(cè)得氣壓 P。,,,,1
35、 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.3 電離真空計(jì)(Ionization Gauge),(a)S-P型,工作上下限問(wèn)題及分類:高低真空端不同 ! 1)下限(高真空端):需要解決軟X射線問(wèn)題。問(wèn)題:柵極被高能電子轟擊發(fā)射出的軟X射線會(huì)進(jìn)一步 轟擊離子收集極,使之發(fā)射光電子并在離子收集 極上形成微弱的等效離子電流 ix(光電效應(yīng)), 收集極電
36、流 IC 實(shí)際上由 I+ 和 ix 兩部分組成: 普通三極型電離真空計(jì) ix 的量級(jí)與真空度為10-6~10-7 Pa時(shí)的I+ 相當(dāng),因此其工作下限一般為10-6 Pa!解決方法:離子收集極尺寸最小化 ? 針狀 ? ?受軟X射線轟擊的面積(幾率) ? ? ix 的數(shù)量級(jí) (與真空度為10-8~1
37、0-9 Pa時(shí)的 I+ 相當(dāng))此類改進(jìn)工作下限的電離真空計(jì)由Bayard和Alpert提出,被稱為B-A型,其工作下限可低至10-8 Pa!,,(b)B-A型,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.3 電離真空計(jì)(Ionization Gauge),(a)S-P型,工作上下限問(wèn)題及分類:高低真空端不同 ! 2)上限(低真空端):解決飽和電離的非線性問(wèn)題。問(wèn)題:P >10-1 Pa時(shí),氣體分子數(shù)??
38、 ? 電子與氣體分子的碰撞幾率? 同時(shí)電子能量?、自由程?? ? 氣體電離趨于飽和 ? IC ? P 的線性關(guān)系不再成立!因此,普通電離真空計(jì)的工作上限為10-1 Pa。解決方法:1)大幅度降低電極間間隔(~3 mm); 2)提高燈絲(發(fā)射極)電位到+45 V, 同時(shí)提高離子
39、收集極電位到 0 V。此類改進(jìn)工作上限的電離真空計(jì)由Schulz和Phelps提出,被稱為S-P型,其工作上限可提高到10 Pa,但同時(shí)由于強(qiáng)化了前述的軟X射線導(dǎo)致的光電效應(yīng),工作下限也相應(yīng)提高到10-2 Pa!,,(b)B-A型,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.3 電離真空計(jì)(Ionization Gauge),小結(jié): 1)電離真空計(jì)的工作范圍: 普通三極型:10-6~10-1 P
40、a; B-A型:10-8~10-1 Pa(高真空適用); S-P型:10-2~10 Pa(低真空適用)2)特 點(diǎn): ①可快速、連續(xù)測(cè)量; ②不適于低真空測(cè)量(改進(jìn)的S-P型也要求 P <10 Pa); ③測(cè)量結(jié)果與氣體種類有關(guān); ④需要定期除氣處理。課后作業(yè):真空計(jì)如何分類?圖示說(shuō)明至少 2 種常用真空計(jì)的工作原理、工作范圍、
41、適用場(chǎng)合以及優(yōu)、缺點(diǎn)。,,,1 真空技術(shù)基礎(chǔ),,,,,,1.3 真空的測(cè)量1.3.4 薄膜真空計(jì)(Capacitance Manometer),,,,工作原理:依靠金屬薄膜在氣體壓力差下產(chǎn)生機(jī)械 位移測(cè)量氣體的絕對(duì)壓力。1)利用金屬薄膜將容器分隔為兩部分,上半部充入 壓力已知的氣體,下半部與待測(cè)真空腔連通;2)薄膜兩側(cè)存在壓差時(shí),薄膜在壓力作用下發(fā)生變 形,
42、使薄膜與固定極板的間距發(fā)生變化,從而使 極間電容發(fā)生變化,測(cè)得電容變化即可反求得到 薄膜偏移量,然后反推壓力差。工作范圍:下限10-3 Pa,上限取決于薄膜強(qiáng)度和位 移極限,一般在105~103 Pa之間。應(yīng)用場(chǎng)合:適用于工作氣體具有腐蝕性的真空環(huán)境測(cè)量。特點(diǎn):1)測(cè)得的是絕對(duì)壓力; 2)測(cè)量精度很高,且與氣體種類無(wú)關(guān);
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