羥基磷灰石粉體及涂層的制備與性能研究.pdf

1、本文是采用化學沉淀法制備納米HAP陶瓷粉體，電化學沉積法在鈦基表面制備HAP涂層，分析HAP粉體及其鈦基涂層的組成、形貌、性能等，探索了HAP復合二氧化鈦粉體作為新型光催化劑在處理廢水方面的應用。 化學沉淀法制備了納米HAP陶瓷粉體。研究了后處理煅燒溫度、反應溫度、pH值、陳化時間等工藝參數(shù)對粉體物相組成、形貌和粒徑大小的影響，得出合成納米HAP粉體較適宜的工藝條件：后處理煅燒溫度為700℃，反應溫度為90℃，pH為10，陳化時

2、間為24h，制備出純凈納米HAP粉體。經(jīng)常壓燒結，燒結體的力學性能基本符合致密骨的要求。 電化學沉積法制備了鈦基羥基磷灰石涂層。研究了沉積電壓，電解液溫度，沉積時間等對涂層形貌、組成和厚度的影響。結果表明沉積電壓為4V，電解液溫度為30℃，沉積時間為90min，經(jīng)堿液處理后制備出均勻致密，呈花簇狀，平均厚度為34μm的純凈HAP涂層。研究了電解液中加入乙醇、過氧化氫和微弧氧化預處理三種方法對基體和涂層結合強度的影響。三種方法對結

3、合強度都有所提高，經(jīng)微弧氧化預處理后最高可達7.56MPa/cm2。 通過SBF模擬體液浸泡分析和比較了涂層的電化學腐蝕性能和生物活性。在SBF中HAP/Ti涂層能夠引導球狀類骨磷灰石晶核在其表面形成，證明了其具有較好的生物活性。陽極極化曲線證明了HAP/Ti涂層在模擬體液中有更好的耐腐蝕性。 以亞甲基藍為模擬廢水，比較了沉淀法制備的三種不同TiO2/HAP復合粉體與純TiO2粉體的光催化性能。HAP粉體投加到TiO2中